隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對材料的綜合性能要求也不斷提高，單一材料性能已不能滿足某些特定環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。對于濺射類鍍膜，可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被濺射出來，并且終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過程，終形成薄膜。國內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)經(jīng)過幾十年的發(fā)展，相對于國外鍍膜設(shè)備而言，在自動化程度與技術(shù)上取得了一定的進(jìn)步，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和性方面尚需提升，設(shè)備仍依賴進(jìn)口。同時多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場存在供大于求的情況，價格競爭較為激烈。

而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。同時由于PVD是一種干法鍍技術(shù),可以避免濕法鍍時酸性或堿性電解質(zhì)溶液殘留在磁體孔隙內(nèi)和電鍍過程中磁體吸氫而導(dǎo)致鍍層脆裂的缺點。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和阻止室內(nèi)熱量外流的要求。 在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車玻璃上有很好的應(yīng)用。多弧離子鍍膜機(jī)

鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f：沒有薄膜技術(shù)就沒有平板顯示器件。

鍍膜技術(shù)在集成電路制造中的應(yīng)用 晶體管路中的保護(hù)層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶硅、鋁、銅及其合金）等多是采用CVD技術(shù)、PVCD技術(shù)、真空蒸發(fā)金屬技術(shù)、磁控濺射技術(shù)和射頻濺射技術(shù)?？梢姎庀喑练e術(shù)制備集成電路的核心技術(shù)之一。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

需要鍍膜的被稱為基片，鍍的材料被稱為靶材。 基片與靶材同在真空腔中。

真空鍍膜設(shè)備，主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，分子束外延，激光濺射沉積等很多種。

真空鍍膜設(shè)備真空系統(tǒng)技術(shù)要求

真空系統(tǒng)能夠通過外接電極進(jìn)行控制、監(jiān)測、加熱等磁控濺射鍍膜需要對工件進(jìn)行烘烤除氣、用離子轟擊進(jìn)行除氣和清洗以提高薄膜的質(zhì)量和結(jié)合力，除此之外還希望能夠監(jiān)測工件鍍膜時的溫度，在線控制薄膜厚度。