鍍膜前的準(zhǔn)備工作

①清潔真空鍍膜室。用吸塵器將真空鍍膜室清潔一遍。當(dāng)經(jīng)過多次鍍膜時，真空鍍膜室的內(nèi)襯板還需作定期清洗，一般是半個月清洗一次。

②檢查電弧蒸發(fā)源。工作前，要確保電弧蒸發(fā)源發(fā)源安裝正確，絕緣良好，引弧針控制靈活,程合適，恰好能觸及陰極表面。

③檢查工件架的絕緣情況。工件架與地之間的絕緣必須須良好，負(fù)偏壓電源與工件架的接觸點點必須接觸良好。

以上幾項工作確保沒有問題后，才可以關(guān)閉真空鍍膜室的門，進行抽氣和鍍膜。

 真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。Parylene又是一種透氧、透水汽率非常低的高分子薄膜材料，Parylene涂敷稀土磁性材料的技術(shù)和產(chǎn)品，目前國外小型釹鐵硼稀土磁性材料都已采用Parylene進行防護。加工件進入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、 機油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。

塑料在真空鍍膜前為何要涂層？       

大多數(shù)塑料在真空鍍膜之前，一般先要涂覆底涂層，主要原因是有以下幾點：

 一：塑料在成型后，表面肯定有的粗糙度，比如有0.5um的粗糙度。

真空鍍膜層很薄，很難掩蓋基材表面的凹凸不平，如果采用底涂技術(shù)，光固化涂層厚度約10~20um，涂層自身粗糙度在0.1um以下，因此可大大提高鍍層的光亮度。

化學(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學(xué)氣相沉積等。

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點：(1)薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。而高真空離子鍍它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。(3)薄膜與基體結(jié)合強度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。