真空磁控陰極濺射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔體內(nèi)，處在負(fù)電壓的兩極間的工作氣體正離子在正交電磁場的作用下飛向陰極，在很短的陰極位降區(qū)內(nèi)獲得很大的能量去迅速轟擊靶材，從而使陰極(靶材)原子飛向玻璃基片--玻璃沉積膜層，濺射出的二次電子(此過程稱γ過程)在電磁場作用下按旋輪線運(yùn)動參與碰撞電離，蟹衍載流子，這樣就能源源不斷地轟擊陰極，提供足夠數(shù)量的正離子，形成的等離子區(qū)使持續(xù)輝光放電，其可以一次完成多層鍍膜，有著的膜層均勻性，的邊緣復(fù)蓋和良好的附著力。鍍膜有著優(yōu)于和區(qū)別于其它真空磁控濺射鍍膜機(jī)的地方是：它的平面磁控靶上的磁場是由環(huán)形磁鐵產(chǎn)生的，可將半園環(huán)形磁鐵看成是無限T微扇柱狀磁鐵的組合 。眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。所以，其相應(yīng)點(diǎn)磁標(biāo)勢較穩(wěn)定，才能生產(chǎn)出均勻牢固的鍍膜層。

鍍膜是用物理或化學(xué)的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質(zhì)膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。光學(xué)鍍膜是在光學(xué)干涉原理，在可見光和紅外線波段范圍內(nèi)，使反射率在78-98%之間，以達(dá)到透光率，光學(xué)鍍膜技術(shù)一直是光學(xué)領(lǐng)域中不可忽略的重要基礎(chǔ)技術(shù)。在建立緊密合作型研發(fā)創(chuàng)新公私伙伴關(guān)系（PPP）的同時(shí)，將長期致力于功能金屬氧化物薄膜材料的研制開發(fā)及商業(yè)化推廣應(yīng)用。

在我們的日常生活中，光學(xué)鍍膜隨處可見，如平時(shí)戴的眼鏡、數(shù)碼相機(jī)、各式家電用品，或者是上的防偽技術(shù)，領(lǐng)域的各種設(shè)備、軍事領(lǐng)域的等等。普遍的是在太陽光下看手機(jī)屏的字，由于反射光透不強(qiáng)，屏幕模糊，這需要屏幕的光學(xué)鍍膜來達(dá)到透射清晰效果。

鍍材范圍廣，由于濺射鍍膜是通過離子的高速轟擊使鍍材濺射出來的，當(dāng)然這個厚度是在可允許的范圍內(nèi)，而且控制好電流，無論重復(fù)鍍多少次，膜層厚度都不會變化，膜厚的穩(wěn)定性可歸結(jié)為膜厚良好的可控性和重復(fù)性。不像五金電鍍加工由于熔點(diǎn)的原因而限制只能使用熔點(diǎn)比較低的鍍材，而濺射鍍膜固體的物質(zhì)都可以成為鍍材。帶鋼真空鍍膜總的來說仍處在發(fā)展的初級階段，在帶鋼表面處理中所占份額目前還遠(yuǎn)不能與熱浸鍍、電鍍相比。

高真空離子鍍是常見的塑膠產(chǎn)品電鍍技術(shù)中的目前市場新興興起的一種技術(shù)。高真空離子鍍，又稱高真空鍍膜加工。Parylene具有優(yōu)異的尺寸穩(wěn)定性和低溫性能，在幾乎不改變器件尺寸的情況下提供1。如今高真空電鍍的做法現(xiàn)在是一種相來說比較盛行的一種做法，做出來的商品金屬質(zhì)感強(qiáng)，表面亮度高.而相對別的的鍍膜法來說，成本較低，對環(huán)境的污染小，可選擇原料種類多，這也是近年來一些電鍍加工廠比較推崇的鍍膜電鍍技術(shù)。