真空鍍膜技術(shù)一般分為兩大類，即物理氣相沉積技術(shù)和化學(xué)氣相沉積技術(shù)。

物理氣相沉積技術(shù)是指在真空條件下，利用各種物理方法，將鍍料氣化成原子、分子或使其離化為離子，直接沉積到基體表面上的方法?；瘜W(xué)氣相沉積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體，借助氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng)，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，主要包括常壓化學(xué)氣相沉積、低壓化學(xué)氣相沉積的等離子化學(xué)氣相沉積等。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料。真空鍍膜可以使原料具有許多新的、好的物理和分析化學(xué)特征。金屬化學(xué)氣相沉積

真空鍍膜是應(yīng)用物理分析化學(xué)方法，提高產(chǎn)品質(zhì)量、提高產(chǎn)品使用期限。根據(jù)效果和基礎(chǔ)表層的化學(xué)變化，在基礎(chǔ)上制作金屬材料和化學(xué)物質(zhì)塑料薄膜的方式。金屬化學(xué)氣相沉積

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。

雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點：如對環(huán)境無污 染，是綠色環(huán)保工藝;對操作者無傷害。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜加工設(shè)備完成真空鍍膜過程其工藝之多非常復(fù)雜，真空鍍膜加工原理有不同可分很多種類，因為真空鍍膜加工工作環(huán)境要要求高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的真空鍍膜加工，影響均勻性的因素也不盡相同。