而陽(yáng)光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽(yáng)光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽(yáng)輻射能量和阻止室內(nèi)熱量外流的要求。該設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理，膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作同期短、生產(chǎn)、操作方便，能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。 在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車玻璃上有很好的應(yīng)用。多弧離子鍍膜機(jī)

鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類平板顯示器都要用到各種類型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄愋偷钠桨屣@示器件都需要使用ITO膜，以滿足透明電器的要求。可以毫不夸張的說(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。

鍍膜技術(shù)在防偽技術(shù)中的應(yīng)用 防偽膜種類很多，從使用方法可分為反射式和透射式；從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜式或間接鍍膜剪貼式。

鍍膜技術(shù)在飛機(jī)防護(hù)涂層方面的應(yīng)用 飛機(jī)的鈦合金緊固件，原來(lái)采用電鍍方法鍍鎘。真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。 鍍膜技術(shù)在光學(xué)儀器中的應(yīng)用 人們熟悉的光學(xué)儀器有望遠(yuǎn)鏡、顯微鏡、照相機(jī)、測(cè)距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡、放大鏡等，它們都離不開鍍膜技術(shù)，鍍制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等幾種。

蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)的工作原理：通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之知一。 蒸發(fā)物質(zhì)如金屬、化合物等置于坩堝內(nèi)或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。2、鍍膜技術(shù)在刀具、模具等金屬切削加工工具方面的應(yīng)用在生活中我們會(huì)看到金黃色的、鈷銅色的、黑色的等七雜八色的鉆頭、銑刀、模具等，這些就是經(jīng)過(guò)鍍膜技術(shù)加工后的涂層工具。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質(zhì)蒸發(fā)。蒸發(fā)物質(zhì)的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數(shù)百埃至數(shù)微米。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時(shí)間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關(guān)。對(duì)于大面積鍍膜，常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為0.1～0.2電子伏。簡(jiǎn)言之，蒸發(fā)式真空鍍膜機(jī)的工作原理就是真空室內(nèi)利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達(dá)到裝飾美化物品表面的目的。

鍍膜機(jī)工作原理是在真空狀態(tài)下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。小型氣相沉積設(shè)備

當(dāng)真空鍍膜設(shè)備抽泵連續(xù)工作一個(gè)月的時(shí)候，我們需要重新更換新油，將泵油內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)然后加入新的泵油至一定量。連續(xù)使用半年以上，再將真空泵油時(shí)應(yīng)該將油蓋打開，用布擦拭箱內(nèi)的污垢。

鍍膜適合于塑料制品、陶瓷、樹脂、水晶玻璃制品等多個(gè)行業(yè)，為了避免影響產(chǎn)品質(zhì)量，出現(xiàn)膜層發(fā)皺、龜裂等問(wèn)題一定要及時(shí)解決。