濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。以pld為例，因素主要有：靶材與基片的晶格匹配程度、鍍膜氛圍(低壓氣體氛圍)、基片溫度、激光器功率、脈沖頻率、濺射時間。對于不同的濺射材料和基片，參數(shù)需要實驗確定，是各不相同的，鍍膜設(shè)備的好壞主要在于能否控溫，能否保證好的真空度，能否保證好的真空腔清潔度。厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長作為單位，約為100A)，真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。MBE分子束外沿鍍膜技術(shù)，已經(jīng)比較好的解決了如上所屬的問題，但是基本用于實驗研究，工業(yè)生產(chǎn)上比較常用的一體式鍍膜機主要以離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜為主。

真空鍍膜技術(shù)被譽為發(fā)展前途的重要技術(shù)之一 ，鍍膜公司并已在高技術(shù)產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場前景。這種新興的真空鍍膜技術(shù)已在國民經(jīng)濟各個領(lǐng)域得到應(yīng)用，如航空、航天、電子、信息、機械、石油、化工、環(huán)保、軍事等領(lǐng)域。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，真空鍍膜對于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場合，則要求壓力更低（ 10-5Pa ）。 鍍層厚度0.04-0.1um,太薄，反射率低；太厚，附著力差，易脫落。厚度0.04時反射率為90%。

物質(zhì)以分子的形式緊密結(jié)合在一起，當(dāng)水遇到這樣的涂層，就會凝結(jié)成水珠滾落，可以實現(xiàn)很出色的防水防潮效果。而且，這樣的納米膜還可以涂覆在內(nèi)部電子元件表面，這樣即使有水進(jìn)到內(nèi)部也不會造成損壞。

納米涂層在顯微鏡上觀察有多個納米顆粒組成，相臨的納米顆粒之間形成極細(xì)小的氣孔，氣孔遠(yuǎn)小于水分子，表面氣孔產(chǎn)生氣墊效應(yīng)，從而托住水分子，達(dá)到斥水斥油污的目的，同時由于顆粒之間的不平整，導(dǎo)致水滴在膜層表面的接觸角變大，使水滴輕易的滑落

生物學(xué)電子Parylene不僅電性能，防護(hù)性能好，而且生物相溶性也好，它已通過美國FDA論證，滿足材料VI類標(biāo)準(zhǔn)，被列為是一種可以在體內(nèi)長期植入使用的生物醫(yī)學(xué)材料。

光纖光纜接頭密封件光纖光纜接頭在使用中可能遇到各種不同的環(huán)境，通常使用含有硅橡膠密封圈的接頭使光纜與環(huán)境相隔離，經(jīng)Parylene涂敷后的硅橡膠密封圈，能更好的適應(yīng)各種惡劣環(huán)境，防止硅橡膠老化，延長密封圈的壽命。