真空鍍膜機(jī)濺射工藝

真空鍍膜機(jī)濺射工藝主要用于真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕和薄膜沉積兩個(gè)方面。濺射刻蝕時(shí)，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進(jìn)行刻蝕?？涛g速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕時(shí)，應(yīng)盡可能從真空鍍膜機(jī)濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體，通過真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時(shí)，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的，則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜；若在濺射室內(nèi)有意識(shí)地引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個(gè)數(shù)量級(jí)，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時(shí)襯底加適當(dāng)?shù)钠珘海梢约骖櫼r底的清潔處理，這對(duì)生成薄膜的臺(tái)階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機(jī)濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對(duì)靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應(yīng)用于表面分析儀器中，對(duì)樣品進(jìn)行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機(jī)濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個(gè)高的負(fù)電位，正離子被此電場(chǎng)加速后獲得動(dòng)能轟擊靶極產(chǎn)生濺射，同時(shí)不可避免地發(fā)生電子對(duì)襯底的轟擊。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備

該設(shè)備結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

臥式蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備具有：結(jié)構(gòu)合理、膜層均勻、成膜質(zhì)量好、抽速大、工作周期短、生產(chǎn)、操作方便、能耗低性能穩(wěn)定等優(yōu)點(diǎn)。廣泛應(yīng)用于汽車、音響、各類小家電、電腦、鐘表、玩具、手機(jī)、反光環(huán)、化妝品、玩具等行業(yè)。

鍍制效果有：普通電鍍亮面、啞面（半啞、全?。⒐に囯婂?、拉絲、雨滴、七彩等等。

至成鍍膜機(jī)廠家可以根據(jù)用戶要求設(shè)計(jì)各種規(guī)格型號(hào)的真空鍍膜機(jī)。真空機(jī)組及電控系統(tǒng)也可根據(jù)用戶要求進(jìn)行設(shè)計(jì)配置。

真空鍍膜機(jī)的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機(jī)械密封的安裝與使用

真空鍍膜機(jī)的全新發(fā)展真空泵與隔膜泵機(jī)械密封的安裝與使用 真空鍍膜機(jī)的發(fā)展相當(dāng)迅速，隨著生產(chǎn)率的提高，生產(chǎn)費(fèi)用大大降低，已經(jīng)為真空鍍膜產(chǎn)品的普遍使用鋪平了道路。 以卷繞式真空鍍膜機(jī)為例，剛開發(fā)時(shí)可鍍的薄膜基材寬度是150mm，目前已達(dá)2253mm?；木硗驳拇缶韽绞?000mm，大卷繞速度750m/min。自動(dòng)裝卸的半連續(xù)卷繞式真空鍍膜機(jī)鍍膜時(shí)間占整個(gè)周期的75%，輔助操作時(shí)間只占25%。隨著計(jì)測(cè)技術(shù)、控制技術(shù)的進(jìn)步和電子計(jì)算機(jī)的應(yīng)用，卷繞式真空鍍膜機(jī)正向著高度自動(dòng)化和高度可靠性的方向發(fā)展。

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別

真空電鍍和水電鍍的區(qū)別 1、簡(jiǎn)單來說，真空電鍍不過油，其附著力很差，無法過百格TEST，而水電鍍的明顯好于真空電鍍！因此，為保證真空電鍍的附著力，均需后續(xù)進(jìn)行特殊的噴涂處理,成本當(dāng)然高些。 2、水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對(duì)于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等五花八門的七彩色就無能為力了。而真空電鍍可以解決七彩色的問題。 3、水電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價(jià)鉻”，這是非環(huán)保材料。對(duì)于“六價(jià)鉻”有如下的要求：歐盟：76/769/EEC：禁止使用；94/62/EC：<100ppm；ROHS：<1000ppm 如此嚴(yán)格的要求，國(guó)內(nèi)一些廠家已開始嘗試使用“三價(jià)鉻”來替代“六價(jià)鉻”；而真空電鍍使用的鍍層材質(zhì)廣泛、容易符合環(huán)保要求。