江蘇一六儀器有限公司  專(zhuān)業(yè)鍍層測(cè)厚檢測(cè)   歡迎來(lái)電詳詢(xún)！ 

  X射線(xiàn)熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試，厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。X射線(xiàn)熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測(cè)元素的特征X射線(xiàn)熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān)，而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線(xiàn)熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法，具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速，方便，測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì)，特別適合用于各類(lèi)相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。是目前應(yīng)用為廣泛，具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。一六熒光測(cè)厚儀十年以上研發(fā)團(tuán)隊(duì)集研發(fā)生產(chǎn)銷(xiāo)售一體元素分析范圍:氯(CI)-鈾(U)厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物一次可同時(shí)分析:23層鍍層,24種元素厚度檢出限:0。

江蘇一六儀器    X熒光光譜測(cè)厚儀  專(zhuān)業(yè)涂鍍層測(cè)厚

應(yīng)用領(lǐng)域：廣泛應(yīng)用于線(xiàn)路板、引線(xiàn)框架及電子元器件接插件檢測(cè)、鍍純金、K金、鉑、銀等各種飾品的膜層成分和厚度分析、手表、精密儀表制造行業(yè)、

釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB、汽車(chē)、五金、電子產(chǎn)品等緊固件的表面處理檢測(cè)、衛(wèi)浴產(chǎn)品、裝飾把手上的Cr/Ni/Cu/CuZn(ABS)、電鍍液的金屬陽(yáng)離子檢測(cè)。

江蘇一六儀器  X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀

      電鍍液測(cè)量杯整套含兩個(gè)測(cè)量杯，可用于多品牌X-RAY測(cè)厚儀上使用，高純?cè)乇镜滋岣邷y(cè)量精度和檢出限。電鍍液測(cè)試樣品杯，嚴(yán)格控制了容量和溢出物的處理，用來(lái)測(cè)試溶液中金屬離子的濃度；使用方便簡(jiǎn)捷，無(wú)污染。

測(cè)試膜，又名X射線(xiàn)熒光光譜儀樣品薄膜，邁拉膜，麥拉膜，XRF測(cè)試薄膜，XRF樣品膜，樣品薄膜，EDX薄膜，EDX樣品薄膜，ROHS檢測(cè)膜，光譜儀樣品薄膜；光譜分析儀可以說(shuō)是檢測(cè)儀器中的“超能先生”，在生物、能源環(huán)境、食品安全等領(lǐng)域都能看到它的身影。是應(yīng)用于X熒光光譜儀的用于保留液體、粉末、泥漿或固體樣本在樣本杯內(nèi)的物質(zhì)。專(zhuān)用樣品薄膜是使用方便簡(jiǎn)捷，無(wú)污染的測(cè)試用樣品薄膜，廣泛應(yīng)用于Elite、fischer、牛津、博曼、先鋒、日立、天瑞等各種品牌的EDX/XRF光譜儀。

     江蘇一六儀器有限公司是一家專(zhuān)注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專(zhuān)業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn)，經(jīng)與海內(nèi)外多名專(zhuān)家通力合作，研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

     X射線(xiàn)熒光光譜測(cè)厚儀原理

    一個(gè)內(nèi)層電子而出現(xiàn)一個(gè)空穴，使整個(gè)原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)，激發(fā)態(tài)原子壽命約為 (10)-12-(10)-14s，然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)。這個(gè)過(guò)程稱(chēng)為馳豫過(guò)程。馳豫過(guò)程既可以是非輻射躍遷，也可以是輻射躍遷。當(dāng)較外層的電子躍遷到空穴時(shí)，所釋放的能量隨即在原子內(nèi)部被吸收而逐出較外層的另一個(gè)次級(jí)光電子，此稱(chēng)為俄歇效應(yīng)，亦稱(chēng)次級(jí)光電效應(yīng)或無(wú)輻射效應(yīng)，所逐出的次級(jí)光電子稱(chēng)為俄歇電子。X射線(xiàn)熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試，厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。

     它的能量是特征的，與入射輻射的能量無(wú)關(guān)。當(dāng)較外層的電子躍入內(nèi)層空穴所釋放的能量不在原子內(nèi)被吸收，而是以輻射形式放出，便產(chǎn)生X射線(xiàn)熒光，其能量等于兩能級(jí)之間的能量差。因此，X射線(xiàn)熒光的能量或波長(zhǎng)是特征性的，與元素有一一對(duì)應(yīng)的關(guān)系。 K層電子被逐出后,其空穴可以被外層中 任一電子所填充，從而可產(chǎn)生一系列的譜線(xiàn)，稱(chēng)為K系譜線(xiàn):由L層躍遷到K層輻射的X射線(xiàn)叫Kα射線(xiàn),由M層躍遷到K層輻射的X射線(xiàn)叫Kβ射線(xiàn)……。2、分析速度快，無(wú)須進(jìn)行樣品預(yù)處理，升值無(wú)須樣品的制備，X射線(xiàn)熒光光譜分析可以篩選大量的樣品。