基片裝在接地的電極上，絕緣靶裝在對面的電極上。高頻電源一端接地，一端通過匹配網(wǎng)絡(luò)和隔直流電容接到裝有絕緣靶的電極上。接通高頻電源后，高頻電壓不斷改變極性。等離子體中的電子和正離子在電壓的正半周和負(fù)半周分別打到絕緣靶上。低區(qū)走位好：即使是形狀復(fù)雜的鍍件,仍可在凹洼處鍍上合格鎳層,且沒有明顯色差為較好。由于電子遷移率高于正離子，絕緣靶表面帶負(fù)電，在達(dá)到動態(tài)平衡時，靶處于負(fù)的偏置電位，從而使正離子對靶的濺射持續(xù)進(jìn)行。采用磁控濺射可使沉積速率比非磁控濺射提高近一個數(shù)量級。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的發(fā)明目的在于：為了解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，本實(shí)用新型提供一種手機(jī)指環(huán)扣。

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中所存在的問題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案：一種手機(jī)指環(huán)扣，包括有與手機(jī)殼連接且中部設(shè)置有凸起的底盤、設(shè)置在所述底盤上且中部上設(shè)置有通孔的旋轉(zhuǎn)件、與所述旋轉(zhuǎn)件花鍵連接的旋轉(zhuǎn)蓋、與所述旋轉(zhuǎn)蓋邊緣連接的指環(huán)、設(shè)置在指環(huán)上的裝飾件；機(jī)械開動后，由一人運(yùn)料及機(jī)械操作，其他人不得按動電建或腳踩腳踏開關(guān)板，為了他人安全更不能將手放入機(jī)械作業(yè)區(qū)或用手觸動機(jī)械的運(yùn)動部分。所述指環(huán)的外圈上設(shè)置內(nèi)軌，所述裝飾件的邊緣上設(shè)置有凸邊，通過內(nèi)軌與凸邊的配合，實(shí)現(xiàn)裝飾件在內(nèi)軌內(nèi)運(yùn)動。

更具體而言，所述外觀鋁件3外圓上均勻設(shè)有若干凹槽。通過凹槽便于取下套在外觀鋁件3上的鐵制指環(huán)4,且其整體外形看上去更加美觀。

[0022]以上為本實(shí)用新型較佳的實(shí)施方式，本實(shí)用新型所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員還能對上述實(shí)施方式進(jìn)行變更和修改。因此，本實(shí)用新型并不局限于上述的具體實(shí)施方式，凡是本領(lǐng)域技術(shù)人員在本實(shí)用新型的基礎(chǔ)上所作的任何顯而易見的改進(jìn)、替換或變型均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。如今在許多電鍍加工廠中相對于傳統(tǒng)的電鍍工藝，真空電鍍加工技術(shù)具有三大長處：一：堆積資料廣泛：可堆積鋁、鈦、鋯等濕法電鍍無法堆積的低電位金屬，通以反響氣體和合金靶材更是能夠堆積從合金到陶瓷甚至是金剛石的涂層，并且能夠根據(jù)需要規(guī)劃涂層系統(tǒng)。