微弧氧化技術

       微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化現象及特點在陽極氧化過程中，當鋁合金上施加的電壓超過一定范圍時，鋁合金表面的氧化膜就會被擊穿。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。該技術具有操作簡單和膜層功能可控的特點，而且工藝簡便，環(huán)境污染小，是一項全新的綠色環(huán)保型材料表面處理技術，在航空航天、機械、電子、裝飾等領域具有廣闊的應用前景。微弧氧化技術、微弧氧化生產線、微弧氧化電源

影響微弧氧化的因素

1、微弧氧化時間的影響：微弧氧化時間一般控制在10～60min。氧化時間越長，膜的致密性越好，但其粗糙度也增加。

2、陰極材料：微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料。由于微弧氧化電解液多為堿性液，故陰極材料可采用碳鋼，不銹鋼或鎳。其方式可采用懸掛或以上述材料制作的電解槽作為陰極。微弧氧化電源、微弧氧化生產線、微弧氧化技術

微弧氧化技術應用前景

      微弧氧化技術具有很多優(yōu)點，如工藝簡單、不引入有毒物，符合當今清潔生產發(fā)展的要求，對要處理的零件形狀沒有特殊要求，特別是對異型零件、孔洞、焊縫的可加工能力強于其他表面陶瓷化工藝，因此微弧氧化技術在軍事、航空、航天、鐵路、機械、紡織、汽車、、電子、裝飾等許多領域有廣泛的應用前景。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。采用微弧氧化技術所制備的陶瓷膜同時具備了陽極氧化膜和陶瓷噴涂層兩者的優(yōu)點，可以部分替代陽極氧化膜和陶瓷噴涂的產品。