蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家專業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。

顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

保護物質僅僅由顯影物質和堿組成的顯影液是可以顯現(xiàn)影像的，但是在顯影過程中，很快便被氧化，形成非活性的顯影物質。被氧化的顯影液是無活性的，呈深褐色。為了減緩顯影液氧化過程和延長其使用時間，須往顯影液中加進保存物質或保護物質。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方普通顯影液有時也稱為通用顯影液，其特點是具有中等活性，即可用于沖洗底片感光材料，又可用于沖洗正片感光材料。在大多數顯影液配方中，使用亞硫酸鈉作為保護物質。

主要產品有：導光膜/銅鋁箔/導電雙面/導電布/鈹銅彈片/吸波材/導電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。

顯影液配方

D-7 顯影液 （底片、相紙通用）溫水 30~45℃ 750ml米吐爾 3g無水亞硫酸鈉 45g對二酚（幾奴尼） 12g無水碳酸鈉 67.5g化鉀 2gD-76型 粒顯影液 （底片用）溫水 52℃ 750ml米吐爾 2g無水亞硫酸鈉 100g對二酚（幾奴尼） 5g硼砂 2gD-19型 高反差強力顯影液 （全息用）溫水 50℃ 800ml米吐爾 2g無水亞硫酸鈉 90g對二酚（幾奴尼） 8g無水碳酸鈉 48g化鉀 5g注：將藥劑依次溶于溫水后，加水至1000ml。用反差顯影液沖洗的影像，會使微粒結構變壞、粒度增大，并加重了光暈及邊緣效應，尤其是在錯誤曝光時。

甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細部，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。長期以來，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細部，而灰霧度很小。甘氨酸常被 用來與米吐爾、二酚及菲尼酮配合使用。

土吐爾與二酚相配合可作成通用顯影液，沖洗底片和正片對氨基酚用作在弱堿溶液中作為軟影調顯影物質。對氨基酚的濃縮液與苛性堿相配合可作成玫紅醇型通用顯影液。將此種顯影波溶于不同量的水中可形成性質各異的多種顯影液，從很強力的高反差顯影液至軟調的平衡顯影液。對氨基酚顯影液的特點是，具有很高的顯影選擇性；甚至在長時間顯影及很高溫度下，對氨基酚顯影液也不會洗出很強的灰霧。濃縮顯影液易于保存。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方阿米土耳是活性最強的一種顯影物質，用此種顯影物質可以在不加加速物質的情形下進行顯影，但是它會很快被空氣中的氧氣所氧化，因此其溶液不能長期保存。但是，在稀釋狀態(tài)下很易于氧化，并且氧化生成物會使乳劑層著色。