真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件

真空鍍膜設(shè)備主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。

那么，真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件有哪些？我們一起來看看吧：

1、環(huán)境溫度：10~30℃

2、相對濕度：不大于70%

3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃

4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?

5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；

6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。

此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。而且地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵埃。為防止機(jī)械泵工作時(shí)排出的氣體對實(shí)驗(yàn)室環(huán)境的污染，可采用在泵的排氣口上面裝設(shè)排氣管道（金屬、橡膠管）的辦法，將氣體排出室外。

真空鍍膜機(jī)工件除氣的必要性和真空鍍膜機(jī)分類介紹

真空狀態(tài)是支持真空鍍膜機(jī)運(yùn)作的環(huán)境，特別是需要高真空度的設(shè)備，通常我們需要達(dá)到高真空度，抽氣系統(tǒng)的作用是功不可沒的，但除了抽氣系統(tǒng)外，在真空鍍膜設(shè)備運(yùn)行的過程中，還有一點(diǎn)就是，工件的除氣。

有些工件它本身內(nèi)部存在著很多的氣體、水分等，這些物質(zhì)都會(huì)隨著設(shè)備加熱時(shí)被排放到真空室中，降低了真空度，更甚者，有些氣體帶有毒性成分，直接損害到真空室內(nèi)部機(jī)械結(jié)構(gòu)，造成設(shè)備不能正常運(yùn)作。另外，正在鍍膜過程中，由于工件內(nèi)氣體加熱膨脹，容易使已經(jīng)鍍上的膜層裂開，當(dāng)然這個(gè)情況出現(xiàn)的機(jī)率視工件本身物理性質(zhì)有關(guān)，像塑料等容易膨脹的，機(jī)率就比較高，像金屬等硬質(zhì)的，機(jī)率就比較低，但也不能忽視，因此工件的除氣是非常必要的。

通常我們使用的工件除氣方法是烘烤，通過加熱把工件內(nèi)的氣體、水分排出，在鍍膜前，抽氣的同時(shí)，對工件進(jìn)行加熱，當(dāng)工件內(nèi)水分和氣體由于加熱而放出后，隨著真空室內(nèi)的氣體一起被真空泵抽出。

針對不同的工件采取不一樣的除氣措施，有效控制工件內(nèi)部氣體與水分排放，提高鍍膜的穩(wěn)定性和均勻性。真空鍍膜機(jī)分類和適用范圍真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。

1.環(huán)境溫度：10~30℃

2.相對濕度：不大于70%

3.冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃

4.冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?

5.供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz，電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz；

6.設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。

7.設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。