影響微弧氧化的因素

（1）微弧氧化對鋁材要求不高，不管是含銅或是含硅的難以陽極氧化鋁合金，只要閥金屬比例占到40%以上，均可用于微弧氧化，且能得到理想膜層。

（2）表面狀態(tài)一般不需要經過拋光處理，對于粗糙的表面，經過微弧氧化，可修復的平整光滑；對于粗糙度低（即光滑）的表面，則會增加粗糙度。

工件材質及表面狀態(tài)對微弧氧化會有一定的影響，所以一定要引起注意。微弧氧化生產線、微弧氧化電源、微弧氧化技術

 微弧氧化膜層性能檢測

       微弧氧化膜層性能檢測儀器膜層的性能檢測包含三部分院厚度表征、硬度表征、形貌表征、相成分表征和表面粗糖度表征等。根據(jù)實際加工時的工況，如復雜形狀工件、只對工件局部進行微弧氧化處理、大面積工件的表面微弧氧化處理等情況，可采取特殊的工裝卡具及對工件進行局部采取屏蔽，大大提高工效和降低成本。采用德禍流測厚儀對氧化陶瓷膜的厚度進行檢測；微弧氧化采用利用顯微硬度儀測量膜層表面顯微硬度曰利用環(huán)境掃描電子顯微鏡對微弧氧化陶瓷膜的表面、截面形貌以及微觀結構進行觀察。微弧氧化設備、微弧氧化電源、微弧氧化生產線

微弧氧化膜的性能特點

1. 硬度極高，可達1500-2000HV.比一般陽極氧化或電鍍處理高許多；

2. 耐磨性；

3. 耐腐蝕性好，耐中性鹽霧可達2000h以上；

4. 絕緣性能良好；

5. 附著力良好，將工件加熱至300℃，立即浸入冷水中，反復數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。微弧氧化技術、微弧氧化設備、微弧氧化生產線、微弧氧化電源的好處、微弧氧化廠家

微弧氧化

       在微弧氧化過程中，化學氧化、電化學氧化、等離子體氧化同時存在,因此陶瓷層的形成過程非常復雜,至今還沒有一個合理的模型能全描述陶瓷層的形成。鋁合金微弧氧化又稱等離子體微弧氧化，等離子體陶瓷化或火花放電沉積技術。微弧氧化工藝將工作區(qū)域由普通陽極氧化的法拉第區(qū)域引入到高壓放電區(qū)域，克服了硬質陽極氧化的缺陷，極大地提高了膜層的綜合性能。微弧氧化膜層與基體結合牢固，結構致密，韌性高，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性。