真空電鍍?cè)O(shè)備膜厚的不均勻問(wèn)題

無(wú)論監(jiān)控儀精度怎樣，它也只能控制真空室里單點(diǎn)位置的膜厚，一般來(lái)講是工件架的中間位置。真空鍍膜設(shè)備應(yīng)用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見(jiàn)，是必不可少的一項(xiàng)技術(shù)。如果真空電鍍?cè)O(shè)備此位置的膜厚不是均勻的，那么遠(yuǎn)離中心位置的基片就無(wú)法得到均勻的厚度。雖然屏蔽罩能消除表現(xiàn)為長(zhǎng)期的不均勻性，但有些膜厚度的變化是由蒸發(fā)源的不穩(wěn)定或膜材的不同表現(xiàn)而引起的，所以幾乎是不可能消除的，但對(duì)真空室的結(jié)構(gòu)和蒸發(fā)源的恰當(dāng)選擇可以使這些影響化。

在過(guò)去幾年中，越來(lái)越多的用戶要求鍍膜系統(tǒng)制造廠家提供的小規(guī)格、簡(jiǎn)便型光學(xué)鍍膜系統(tǒng)，同時(shí)，用戶對(duì)性能的要求不僅沒(méi)有降低，反而有所提高，特別是在薄膜密度和保證吸水后光譜變化小化等方面。

現(xiàn)在，系統(tǒng)的平均尺寸規(guī)格已經(jīng)在降低，而應(yīng)用小規(guī)格設(shè)備進(jìn)行光學(xué)鍍膜的生產(chǎn)也已經(jīng)轉(zhuǎn)變成為純技術(shù)問(wèn)題。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。因此，選用現(xiàn)代化光學(xué)鍍膜系統(tǒng)的關(guān)鍵取決于對(duì)以下因素的認(rèn)真考慮：對(duì)鍍膜產(chǎn)品的預(yù)期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保證高度一致性工藝所必需的所有技術(shù)因素。

鍍膜機(jī)工作原理是在真空狀態(tài)下，使用弧光放電和輝光放電的工作原理。在金屬和非金屬的工件表面上鍍制金色的氮化鈦，黑色碳化鈦，七彩的氮氧化鈦等。橡膠真空鍍膜設(shè)備

當(dāng)真空鍍膜設(shè)備抽泵連續(xù)工作一個(gè)月的時(shí)候，我們需要重新更換新油，將泵油內(nèi)的舊油完全排放出來(lái)然后加入新的泵油至一定量。連續(xù)使用半年以上，再將真空泵油時(shí)應(yīng)該將油蓋打開(kāi)，用布擦拭箱內(nèi)的污垢。

鍍膜適合于塑料制品、陶瓷、樹(shù)脂、水晶玻璃制品等多個(gè)行業(yè)，為了避免影響產(chǎn)品質(zhì)量，出現(xiàn)膜層發(fā)皺、龜裂等問(wèn)題一定要及時(shí)解決。

真空電鍍是真空鍍膜工藝的一項(xiàng)新發(fā)展。開(kāi)機(jī)械泵、予抽，開(kāi)渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開(kāi)關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。真空電鍍當(dāng)高溫蒸發(fā)源通電加熱后，真空電鍍促使待鍍材料—蒸發(fā)料熔化蒸發(fā)。真空電鍍蒸發(fā)料粒子獲得一定動(dòng)能，真空電鍍則沿著視線方向徐徐上升，后真空電鍍附著于工件外表上堆積成膜。真空電鍍用這種工藝形成的鍍層，真空電鍍與零件外表既無(wú)牢固的化學(xué)結(jié)合。橡膠真空鍍膜設(shè)備

裝飾性真空鍍的涂層一般分為底涂層和面涂層兩種，它們主要起提高膜層的結(jié)合力，降低鍍件表面的粗糙度，提高光亮度，保護(hù)金屬膜層的作用。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空濺射鍍膜根據(jù)濺射現(xiàn)象以上，濺射是用荷能離子轟擊固態(tài)表面，造成固態(tài)表面原子逸出的狀況。濺射是出射粒子將動(dòng)能傳送給固態(tài)表面，固態(tài)表面原子因消化吸收動(dòng)能而揮發(fā)出去的全過(guò)程。

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