常見的涂層廢氣處理設(shè)備如下：1?；钚蕴课胶痛呋紵O(shè)備？活性炭吸附和催化燃燒設(shè)備可有效去除涂層廢氣。催化燃燒設(shè)備是系統(tǒng)的核心部分，由廢氣燃燒產(chǎn)生。使熱空氣循環(huán)，當催化床的溫度達到250-300℃時，催化燃燒床開始反應(yīng)。通常，解吸時間為3-4小時，活性炭吸附罐的時間可以在固定時間自動切換和解吸。內(nèi)填充陶瓷蜂窩狀樹脂催化劑的使用壽命為8000小時。整個解吸系統(tǒng)采用多點溫度控制，確保解吸穩(wěn)定?；钚蕴繉雍透鞣N氣流分配器用于濃縮和凈化有機氣體。它是整個設(shè)備的主要循環(huán)的主要組成部分和核心過程。新型活性炭吸附材料 - 細胞活性炭，低阻，低耗，高吸附率等。結(jié)構(gòu)為多孔蜂窩狀，具有孔結(jié)構(gòu)發(fā)達，比表面積大，流體阻力小的優(yōu)點。美國環(huán)境保護局發(fā)布的9種114種澄清劑已被證實通過光催化氧化損失，即使對于原子礦物如鹵代烴，燃料，含氮無機物和無機磷殺蟲劑也是如此。該產(chǎn)品特別適用于高風量和低濃度的植物有機廢氣凈化處理。

光氧化技術(shù)的特點（1）低溫深反應(yīng)：光催化氧化可以使空氣，水和土壤中的有機污染物在常溫下完全氧化成無毒無害的物質(zhì)。傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)需要在極高溫度下破壞污染物，也就是說，使用傳統(tǒng)的催化氧化方法需要幾百度的高溫。 （2）徹底凈化：將空氣中的有機污染物直接氧化成無毒無害的物質(zhì)，不留任何二次污染。廣泛使用的活性炭吸附方法不分解污染物，而只分解污染源。傳遞。 （3）強氧化性：大量研究表明，半導體光催化具有強氧化性，一些難以被臭氧氧化的有機物，如三乙?；?，，可以是有效使用。它被分解，因此對難以降解的有機物具有特殊的意義。光催化有效氧化劑是羥基（·OH）。 OH的氧化性能高于普通臭氧，雙水，高錳酸和次氯酸鹽。上述相應(yīng)的惰性催化劑采用蜂窩狀金屬網(wǎng)作為載體，整個正方形與光源接觸，惰性催化劑在338nm光源下發(fā)生催化反應(yīng)，光源效果好放大10-30倍，使廢氣得到充分利用。等待。

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高能紫外線燈管發(fā)射的高能紫外線產(chǎn)生的光子所具有的能量需要大于惡臭氣體分子的分子鍵結(jié)合能，才能將惡臭氣體分子裂解，而光氧催化器使用的是紫外D波段的UV高能紫外燈管。

需控制好光氧的進氣條件，包括溫度、濕度、粉塵及氣體黏性物質(zhì)的含量、pH等，方可保證較高的高凈化效率。

配置合適功率，安全及性能保障。由于光氧催化系統(tǒng)主要是靠紫外線光去裂解有機廢氣或惡臭氣體分子。

光氧催化良好的運行效果是建立在充分準備的前提下的，只有確保做好上述運行前的準備工作，才能確保設(shè)備可以充分運行且不容易出現(xiàn)意外，從而提高自身收益。