基于用戶的分析需求，儀器可以定制成十種標(biāo)準(zhǔn)基體的任意組合。

CCD光學(xué)系統(tǒng)可以自由選擇120-800nm范圍內(nèi)的任意譜線用于分析線或參比線。光電管光學(xué)系統(tǒng)可設(shè)置108個(gè)光電倍增管。每個(gè)光電管通道都有是一個(gè)微積分器，具有TRS（時(shí)間分解光譜技術(shù)）分析痕量元素和SSE（單火花評(píng)估技術(shù)）分析元素相態(tài)。事實(shí)上，所有分析要求都可以在M12中無(wú)折衷地實(shí)現(xiàn)?？茖W(xué)儀器的進(jìn)展一定程度上代表著科學(xué)前沿的方向，也是推動(dòng)科技創(chuàng)新的重要支撐。

斯派克火花光譜儀的精致設(shè)計(jì)使用日常維護(hù)和校工作量降到，儀器操作變得非常簡(jiǎn)單。對(duì)于儀器參數(shù)設(shè)置，數(shù)據(jù)管理，聯(lián)網(wǎng)傳輸，打印和材料牌號(hào)判定等功能，軟件設(shè)計(jì)了簡(jiǎn)單直觀，易懂的操作界面。SQL數(shù)據(jù)庫(kù)格式是數(shù)據(jù)管理軟件的基礎(chǔ)。

配備現(xiàn)代光譜技術(shù)和高質(zhì)量的元器件，SPECTROLAB設(shè)計(jì)應(yīng)用于解決各種分析要求。憑借其杰出的性能表現(xiàn)和靈活性，適用于過(guò)程控制，質(zhì)量監(jiān)控，材料牌號(hào)判定，材料研究和開(kāi)發(fā)，以及金屬冶煉，加工和回收工業(yè)中的各種分析應(yīng)用。

直讀光譜儀的校準(zhǔn)描跡是對(duì)光譜儀的光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行的校準(zhǔn)。這是校準(zhǔn)的首要前提。

在此條件下可進(jìn)行如下校準(zhǔn)：標(biāo)準(zhǔn)化即再校準(zhǔn)工作曲線，然后可用到的校準(zhǔn)方法有：(1)、修改持久工作曲線法（修改標(biāo)準(zhǔn)化參數(shù)）；(2)、控樣法；(3)、類型標(biāo)準(zhǔn)化法。

透鏡污染透鏡污染引發(fā)的光強(qiáng)值下降。軟件中包含簡(jiǎn)單直接、不言自明的圖標(biāo)，以及熟悉和符合人體工學(xué)的操作方式，幾乎沒(méi)有任何學(xué)習(xí)曲線。透鏡安裝在光譜儀的分光室和火花室之間，起隔離分光室和火花室及匯聚譜線的作用。激發(fā)一定數(shù)量的試樣以后，火花室內(nèi)激發(fā)產(chǎn)生的灰燼等污染物及分光室內(nèi)真空泵長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)轉(zhuǎn)蒸騰產(chǎn)生的油污分子會(huì)污染透鏡的兩個(gè)表面,降低透鏡的透光性,引發(fā)光強(qiáng)值下降。因此，每隔規(guī)定的時(shí)間或分析了一定數(shù)量的試樣后，要將透鏡取下,浸泡在無(wú)水乙醇或其他清洗液中數(shù)十分鐘再用干凈的綢布擦拭干凈后裝上。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制

控制樣品的使用①、分析爐中樣品應(yīng)盡量采用同鋼種，接近含量的控制標(biāo)準(zhǔn)樣品。DSOI技術(shù)將傳統(tǒng)垂直觀測(cè)系統(tǒng)的靈敏度提高了數(shù)倍，避免了垂直雙觀測(cè)結(jié)構(gòu)的復(fù)雜缺點(diǎn)和降低了用戶使用成本。②、一個(gè)控制樣品很難滿足多元素分析的要求，盡量做到分析樣品的含量與控制標(biāo)鋼的成分接近。③、對(duì)特殊情況，個(gè)別元素接近邊緣規(guī)格或超過(guò)標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定時(shí)，應(yīng)選擇適當(dāng)含量的標(biāo)鋼去進(jìn)行控制。④、應(yīng)隨時(shí)聯(lián)系電爐，取好光譜內(nèi)控制標(biāo)鋼，爐中快速分析，應(yīng)盡量采取澆注的控制標(biāo)鋼為好。⑤、對(duì)成品試樣，要注意樣品的狀態(tài)(指淬火，退火狀態(tài))選擇適當(dāng)?shù)目刂茦?biāo)鋼。 次數(shù)用完API KEY 超過(guò)次數(shù)限制