去膜：使用堿性溶液去除感光膠;

水洗：用二級流動水刷洗1～2min，使零件表面清潔，后放入 烘箱進行烘干;

上漆：對圖形、字符及符號進行填漆，;

裁邊制孔：精密剪板機裁剪外形;

涂敷清漆：對加工完成的銘牌表面涂TS01-3聚氨酯清漆。

所述步驟⑴中，繪制菲林感光膠片時，將感光膠片上的標識的筆 畫加粗，標識至少包括圖形、字符及符號。

蝕刻：蝕刻是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。蝕刻的原理是氧化bai還原反應中的置換反應：2AgNo3 Cu=Cu(No3)*2 2Ag。利用蝕刻液與銅層反應,蝕去線路板上不需要的銅,得到所要求的線路。顯影就是在復印機、打印機中顯影就是用帶電的色粉使感光鼓上的靜電潛像轉(zhuǎn)變成可見的色粉圖像的過程。顯影包括正顯影和反轉(zhuǎn)顯影。正顯影時，顯影色粉所帶電荷的極性，與感光鼓表面靜電潛像的電荷極性相反。顯影時，在感光鼓表面靜電潛像是場力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。

指在攝影過程中進入鏡頭照射在感光元件上的光量，由光圈、快門、感光度的組合來控制。通常是指使感光紙或攝影膠片感光，攝影感光材料的感光。

靜電潛像電位越高的部分，吸附色粉的能力越強；靜電潛像電位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。對應靜電潛像電位（電荷的多少）的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模擬復印機中。反轉(zhuǎn)顯影中，感光鼓與色粉電荷極性相同。

蝕刻曝光就是通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

顯影是在硅片表面光刻膠中產(chǎn)生圖形的關鍵步驟。光刻膠上的可溶解區(qū)域被化學顯影劑溶解，將可見的島或者窗口圖形留在硅片表面。常見的顯影方法是旋轉(zhuǎn)、噴霧、浸潤，然后顯影。硅片用去離子水沖洗后甩干。