真空電鍍主要包括：真空蒸鍍、濺射鍍和離子鍍幾種類型。它們都是采用在真空條件下，通過蒸餾或濺射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜，通過這樣的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快附著力好的突出優(yōu)點，但是價格也較高，可以進行操作的金屬類型較少，一般用來作較好產(chǎn)品的功能性鍍層，例如作為內(nèi)部屏蔽層使用。常見的塑膠產(chǎn)品電鍍工藝有兩種：水電鍍和真空離子鍍.

東莞市仁睿電子科技有限公司主營加工：光學鍍膜、光學玻璃鍍膜、光學鏡片鍍膜、真空光學鍍膜、光學真空鍍膜、染色加工、塑料染色加工、杯子漸變加工、塑料漸變加工、亞克力面板、視窗鏡片、PC手機殼。

在電子學方面光學鍍膜更占有極為重要的地位。各種規(guī)模的繼承電路。包括存貯器、運算器、告訴邏輯元件等都要采用導電膜、絕緣膜和保護膜。

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光學鍍膜的假設前提與實際鍍膜存在一些差異，如層與層的邊界存在著材料的相互滲透，膜層內(nèi)部的折射率不均勻，非相干穿透等誤差。

通過熱分解所選定的金屬化合物或有機化合物，獲得沉積光學鍍膜的過程。

實質上離子鍍系光學鍍膜和陰極濺射鍍的有機結合，兼有兩者的工藝特點。表6-9列出了各種鍍膜方法的優(yōu)缺點。