3.晶格有序度的均勻性：

這決定了薄膜是單晶，多晶，非晶，是真空鍍膜技術(shù)中的熱點(diǎn)問題，具體見下。

主要分類有兩個(gè)大種類：

蒸發(fā)沉積鍍膜和濺射沉積鍍膜，具體則包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，溶膠凝膠法等等

一、對于蒸發(fā)鍍膜：

一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。

真空鍍膜金屬真空鍍膜加工

真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，真空鍍膜有很多優(yōu)點(diǎn)：如對環(huán)境無污 染，是綠色環(huán)保工藝；組分均勻性：蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證，具體可以調(diào)控的因素同上，但是由于原理所限，對于非單一組分鍍膜，蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。對操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。真空鍍膜技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子槍蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包 括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物理氣相沉積， 簡稱為PVD。與之對應(yīng)的化學(xué)氣相沉積簡稱為CVD技術(shù)。

處理對真空電鍍層的質(zhì)量有何影響嗎？

真空鍍膜的黏附性比較差，容易脫落電鍍的種類很多， 水電鍍的膜厚比真空濺鍍的厚，水電鍍膜厚一般為15~20UM,真空電鍍 的膜厚一般為0.5~2UM.水電鍍的化學(xué)液不同會(huì)有不同的色彩。 真空電鍍的靶材不同鍍膜顏色不同，真空電鍍的功率，真空等級(jí)不同會(huì)有顏色的變化。濺鍍 濺鍍是利用離子轟擊靶材，擊出靶材原子變成氣相并析鍍于基材上。長期以來，因?yàn)閲窠?jīng)濟(jì)的不斷提高及人民生活水平的改善，極大影響了鍍膜工業(yè)在國民經(jīng)濟(jì)的地位和作用，對于產(chǎn)品鍍膜的要求越來越多，市場需求越來越大。濺鍍具有廣泛應(yīng)用的特性，幾乎任何材料均可析鍍上。