真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法

真空鍍膜機(jī)真空器件的常用檢漏方法 依據(jù)電真空器材的結(jié)構(gòu)特色及丈量精度要求，常用的有兩種檢漏辦法，即氦罩法和噴吹法（這兩種檢漏辦法具體介紹可見：氦罩法和噴吹法的氦質(zhì)譜檢漏儀檢漏常見辦法）。檢漏時，先用氦罩法進(jìn)行總漏率的測定，當(dāng)總漏率超出答應(yīng)值后再用噴吹法進(jìn)行漏孔的認(rèn)位。 氦罩法是被檢件與檢漏儀銜接抽真空到達(dá)檢漏狀況后，用一個充溢氦氣的查驗(yàn)罩，把被檢件全體或部分的表面面包圍起來，如圖4所示。查驗(yàn)罩充氦時先將罩內(nèi)空氣排出再充氦，以確保罩內(nèi)氦濃度盡可能挨近100百分之，被檢件上任何地方有走漏。 檢漏儀都會有漏率值改變，顯示出漏率值。氦罩時刻也要繼續(xù)3~5倍檢漏儀呼應(yīng)時刻。ASM192T2氦質(zhì)譜檢漏儀反應(yīng)時刻小于0.5s,因而氦罩時刻30s即可。氦罩法可方便地測定被檢件總漏率，不會漏掉任何一處漏點(diǎn)，但不能確認(rèn)漏孔方位。 噴吹法是將被檢件與儀器的真空體系相連，對被檢件抽真空后用噴槍向漏孔處吹噴氦氣。當(dāng)有漏孔存在時，氦氣就經(jīng)過漏孔進(jìn)入質(zhì)譜儀被檢測出，噴吹法彌補(bǔ)了氦罩法不能定位的缺點(diǎn)。

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法

離子鍍膜設(shè)備的工作原理及操作方法 目前商業(yè)上已有很精制的設(shè)備安裝在顯微鏡下的載物臺的位置上。濺射鍍膜時，將拋光的試樣安放在式樣頭具上，傾轉(zhuǎn)到面對電子槍（陰極）的位置，調(diào)節(jié)濺射室中的氣壓，輝光放電，陰極濺射，反應(yīng)濺射沉積。一定時間后，中斷濺射，把濺射沉積的試樣表面，轉(zhuǎn)回到面對物鏡的位置，觀察試樣表面的顏色，來評定沉積膜的厚度，當(dāng)要求的顏色得到時，鍍膜操作停止。

真空鍍膜機(jī)中鎢絲的用途

真空鍍膜機(jī)中鎢絲的用途： 鎢絲是真空鍍膜機(jī)中不可或缺的材料，下面為大家講一下這種材料的使用用途。 鎢絲除少量用作高溫爐的發(fā)熱材料、電子管的熱子和復(fù)合材料的加強(qiáng)筋等外，絕大部分都用于制作各種白鎢絲熾燈和鹵鎢燈的燈絲以及氣體放電燈的電極。對用作氣體放電燈陰極的鎢絲或鎢桿，為降低其電子逸出功，須加入0.5～3％的釷，稱為鎢釷絲。由于釷是一種性元素，污染環(huán)境，故有用來代替釷作成鎢絲或鎢桿的。但的蒸發(fā)率高，所以鎢絲或鎢桿只能用于小功率的氣體放電燈。