江蘇友迪激光科技有限公司隸屬于迪盛智能集團旗下，集團公司設(shè)有獨立的研究院，致力于智能裝備的開發(fā)制造，主營芯片封裝（真空鍍膜）、新能源（自動檢測）、PCB（激光直寫）、印刷（激光曬版）等領(lǐng)域。

在國內(nèi)，自主的直接成像技術(shù)在電路板領(lǐng)域的應(yīng)用已有將近十年的歷史，在這個領(lǐng)域諸侯紛爭，百花齊放，與國外的設(shè)備相比，國內(nèi)的設(shè)備技術(shù)指標能持平甚至超越，但設(shè)備的穩(wěn)定性，適用性還有距離。

曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計算機采用自然光源的模式，通常分為多種，手動曝光、AE鎖等模式。將棕片(重氮片)上的圖曝光到涂了感光物或是貼了感光干膜的線路板硬板PCB或軟板FPC上。照片的好壞與曝光有關(guān)，也就是說應(yīng)該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大?。Q定。

LDI機

LDI曝光速度的瓶頸因素包括：數(shù)據(jù)的儲存與傳送、鐳射能量、切換速度、多邊型的制作速度、光阻的感光度、鐳射頭移動速度、電路板傳送作業(yè)模式等。

以基本的影響因素而言，有三個獨立的因子會影響曝光速率：

1、能量密度   2、數(shù)據(jù)調(diào)變的速度   3、機械機構(gòu)速度

光阻必須要有一定量的能量送到表面才能產(chǎn)生適當?shù)钠毓?，而高敏度的光阻需要的能量相對較低。因為總能量等于功率乘上時間，高敏度的感光膜在同樣的功率下所需的曝光時間就比較短。而曝光系統(tǒng)的功能輸出，主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計，所以這是能量與時間的關(guān)系與解析度無關(guān)。而曝光系統(tǒng)的功能輸出，主要來自于系統(tǒng)的光源設(shè)計，所以這是能量與時間的關(guān)系與解析度無關(guān)。