中小型實驗室超純水設(shè)備膜的物理清洗方式有哪些？?

中小型實驗室超純水設(shè)備膜的物理清洗方式有哪些？

    中小型實驗室超純水設(shè)備中的膜在使用的過程中會受到水中雜質(zhì)以及細菌的污染，在被污染后就需要對反滲透膜進行清洗，通常使用的方法有物理清洗與化學(xué)清洗，下面小編來為大家介紹一下中小型實驗室超純水設(shè)備中膜的物理清洗：

    1、等壓沖洗

    適用于中空纖維組件。沖洗時首先運行,關(guān)閉濾液出口并增加原水進入速率,此時中空纖維組件內(nèi)壓力隨之升高,直至達到中空纖維外側(cè)腔體操作壓力相等,即膜兩側(cè)壓差為0,這樣滯留于膜表面的溶質(zhì)分子懸浮于溶液中并隨濃縮液排出。

    2、反沖洗

    指從膜的透過側(cè)通過液體沖洗,將膜面污染物除去的方法。同時應(yīng)該考慮在較低的壓力下進行(0.1MPa左右),以免引起膜裂開。

    3、氣液混合振蕩清洗技術(shù)

    氣液振蕩清洗方法是在膜組件的內(nèi)腔鼓入壓縮空氣,伴隨著反洗的透過液,使中空纖維在空氣泡和水流的作用下晃動振蕩,抖落或沖掉中空纖維外表面附著的污染物。

超純水設(shè)備成為芯片行業(yè)的決勝點

集成電路的集成度越高，對水質(zhì)的要求就越高。芯片相當(dāng)于電子行業(yè)的大腦。雖然只有指甲蓋大小，但一個芯片板上應(yīng)該放置數(shù)十億個納米級晶體管。芯片生產(chǎn)中80%以上的工序需要化學(xué)處理，每一個化學(xué)處理都離不開水。因此，半導(dǎo)體行業(yè)對生產(chǎn)用水的水質(zhì)要求也相當(dāng)嚴格，因為一旦水質(zhì)不合格或水中含有雜質(zhì)，就會降低設(shè)備的性能和成品率，因此在生產(chǎn)中需要使用超純水。芯片行業(yè)的用水量是否合格也決定了產(chǎn)品能否取勝，因此超純水設(shè)備成為芯片行業(yè)的決勝點。

重慶明膜水處理設(shè)備有限公司超純水設(shè)備通常由石英砂過濾器、活性炭過濾器、阻垢劑、精密過濾器等組成。預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等。原水箱、中間水箱、RO純水箱、超純水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)，高低壓泵均設(shè)有高低壓保護裝置，在線水質(zhì)檢測控制儀表，電氣采用PLC可編程控制器，真正做到無人值守，使設(shè)備與其他同類產(chǎn)品相比，具有更高的性價和設(shè)備可靠性。

化工行業(yè)用超純水設(shè)備工作原理

1.主要部分流入樹脂/膜內(nèi)部，另一部分沿模板外側(cè)流動，以清除膜外的離子。

2.樹脂截留水中的溶解離子。

3..截留的離子在電極的作用下，陰離子向正極運動，陽離子向負極運動。

4.陽離子通過陽離子膜排出樹脂/膜。

5.陰離子通過陰離子膜排出樹脂/膜。

6.濃縮離子從廢水流路中排出。

7.無離子水從樹脂/膜中流出。

純水設(shè)備主要用于化學(xué)分析、化工材料、產(chǎn)品清洗、物質(zhì)分離、濃縮、凈化、廢水回收等場合，對水質(zhì)要求相對較低，純水電導(dǎo)率從0.1-20uS/cm即可滿足其要求。我公司可以根據(jù)客戶對水質(zhì)的具體要求設(shè)計合理的方案。生產(chǎn)經(jīng)濟實用、能滿足客戶要求的純水設(shè)備。

化工行業(yè)超純水設(shè)備安裝注意事項。

1.放置位置要求。

系統(tǒng)周圍應(yīng)有足夠的空間連接水管、電源和更換耗材。

請將機器安裝在水源、電源和水槽附近。

2.水源要求。

以自來水為水源的系統(tǒng)要求進水壓力符合設(shè)備要求，進水管徑不得小于規(guī)定尺寸。

若壓力較低，系統(tǒng)將無法正常運行。如果壓力高，系統(tǒng)可能會漏水。

需要考慮進水的硬度。如果硬度高，需要先軟化進水。

以純化水為水源的系統(tǒng)要求進水的TDS值小于20PPM。

化工超純水設(shè)備的使用也有一定的規(guī)范。比如下班或者長時間不用，一定要關(guān)掉設(shè)備的電源和進水的水源，避免事故。