醫(yī)院潔凈手術室凈化工程施工步驟

醫(yī)院潔凈手術室凈化工程施工步驟原理： 步、控制氣流，手術室內含有一定的氣流，簡單的說有很多有害物質在空氣中，我們要做的是把空氣中有害的物質過濾掉。 第二步、初級凈化，在手術室這一定的空間范圍，我們要將此范圍空氣中的微粒子、有害氣體、細菌等污染物質排除，并將室內潔凈度、壓力、溫度、氣流速度、噪音、照明及靜電控制在手術室中。

節(jié)能化成為潔凈工程重要目標

節(jié)能化成為潔凈工程重要目標 潔凈廠房是我國的耗能大戶之一，據(jù)不完全統(tǒng)計，潔凈室的能耗是一般寫字樓的10~30倍。我國的8英寸芯片廠，潔凈室單位面積能耗比美國同型工廠高15%。美國耗能1.28 kW/m2~1.63 kW/m2，而中國耗能1.48 kW/m2~1.93 kW/m2（資料來源：中國電子學會潔凈分會）。以上海某芯片廠為例，其全年耗電量51%是用于潔凈工程運行及相關的維護，如果將51%的能耗合理降低，對企業(yè)來說就意味著利潤的增長。因此，潔凈室下游相關行業(yè)企業(yè)越來越重視潔凈室的節(jié)能問題。這就要求潔凈工程行業(yè)的設計和施工企業(yè)，從客戶需求出發(fā)，從設計理念、建造施工、設備配備及運行等各個方面進行節(jié)能設計，只有采取的節(jié)能技術，整個潔凈工程行業(yè)才能持續(xù)、良性發(fā)展。

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。 具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產品將有污染，特別是怕鈉的半導體車間，這種車間不宜超過25度。 濕度過高產生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學吸附在表面耐難以清除。相對濕度越高,粘附的難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門要開向潔凈度級別高的房間。 壓力差的維持依靠新風量，這個新風量要能補償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風量通過潔凈室的各種縫隙時的阻力。