近年來， 超純水儀設(shè)備在各大領(lǐng)域研究中的重要作用日益突顯。隨著時間的推移、技術(shù)的精進(jìn)，它的市場前景勢必越來越好，應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣。

我國電子工業(yè)部參照ASTM電子級標(biāo)準(zhǔn)，將電子級水質(zhì)技術(shù)分為I級、II級、III級、IV級、V級這五大行業(yè)等級。如今，超純水儀在電子行業(yè)中的作用日益突出，直接影響到電子元器件的生產(chǎn)成本、產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率。在電子元器件的生產(chǎn)過程中，不管是清洗用水，還是配置溶液、漿料，都少不了純水的參與。

醫(yī)院中很多科均需要大量水源用于清洗、診療、配液等，這些水通常直接與人、醫(yī)l器具相接觸。血液透析室中常用水作為透析液稀釋溶劑，透析液通常直接與人血液相接觸，一旦受到污染將給人健康造成極大威脅。而在消毒供應(yīng)室中，一旦醫(yī)l器具沒有清潔徹底，人的風(fēng)險將大大增加。目前，多數(shù)醫(yī)院選用超純水儀設(shè)備來提高醫(yī)院用水的純度。既能達(dá)到藥典規(guī)定的純化用水要求，又方便快捷節(jié)約成本。

實驗室超純水機(jī)適用范圍：

電子行業(yè)生產(chǎn)如單晶硅、半導(dǎo)體、集成電路塊、IC芯片封裝、顯象管、玻殼、液晶顯示器、印刷電路版、光學(xué)、光電、熱電廠、冶金、化工、輕工、汽車制造、制藥等制造工業(yè)用純水制造;

醫(yī)要行業(yè)的大輸液、醫(yī)要制劑、檢驗分析、血液透析、制藥、制劑工藝用水制造;

涂裝行業(yè)如電鍍、電池生產(chǎn)、電泳漆生產(chǎn)線;汽車、電器、建材產(chǎn)品表面清洗、涂裝;玻璃、塑料表面鍍膜等;

化工行業(yè)用水制造如化學(xué)制藥、紡織印染、精細(xì)化工、化妝品、墨盒、日化產(chǎn)品等;

實驗超純水如工廠、大學(xué)及公司的生產(chǎn)實驗室、化學(xué)實驗室、物理實驗室、中試車間、醫(yī)院生化室等。

公司研發(fā)、生產(chǎn)的新一代、系列純水/超純水系統(tǒng) /實驗室及工業(yè)廢水處理 以其精美的外觀設(shè)計，簡單的人性化操作，先進(jìn)的自動化程度，穩(wěn)定的出水水質(zhì)，獨特的功能特點，專有的生產(chǎn)工藝以及采用美國先進(jìn)的水處理技術(shù)和配件等方面優(yōu)勢，深受廣大用戶的信賴。

超純水設(shè)備中EDI模塊的進(jìn)水經(jīng)過預(yù)處理和反滲透系統(tǒng)在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會，但是隨著設(shè)備運行時間的延展，EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞。遇到上述情況，必須對超純水設(shè)備中EDI模塊進(jìn)行清洗，使之恢復(fù)到原來的技術(shù)特性。

超純水設(shè)備中EDI模塊要怎么清洗？

1、在線清洗：在線清洗就是指對反滲透系統(tǒng)總體開展清洗，膜元器件無需取出高壓容器，一般在很大系統(tǒng)軟件中設(shè)計方案應(yīng)用。此清洗方法使用方便便捷，速度快，缺陷為清洗不完全，實際效果不理想化。

2、線下清洗：線下清洗就是指將超純水設(shè)備中EDI模塊從反滲透高壓容器中卸掉，裝進(jìn)型清洗機(jī)器設(shè)備中開展清洗，此清洗方法使用方便便捷，清洗完全、實際效果好。

超純水設(shè)備中EDI模塊清洗注意事項

1、需要清洗的設(shè)備管路必須是與其他連接設(shè)備的連接管路完全隔離的。

2、需要清洗的設(shè)備其電源必須是完全切斷并有“正在操作，不得送電”的安全警示。

3、整個清洗過程中清洗的工作壓力不能超過 0.15MPa。

4、維護(hù)安全性標(biāo)識。

超純水機(jī)ro反滲透系統(tǒng)軟件清洗關(guān)鍵點及錯誤觀念1、挑選適合的清洗要物尤為重要。初次清洗實際操作時，能夠和生產(chǎn)廠家建立聯(lián)系，遵照生產(chǎn)廠家提議的清洗yao物、使用量、時間等開展清洗。還可以在辮別空氣污染物類型后，有目的性地應(yīng)用一種或多種多樣要物開展清洗。2、配置清洗液時優(yōu)先選擇采用純凈水、雙蒸水，次之是軟化水。3、為防止膜元件損傷，清洗液的PH值應(yīng)在4~10中間，容許的zui大范疇是2~12。4、超純水機(jī)ro反滲透系統(tǒng)軟件清洗時能夠挑選線上清洗（膜元件不取下）和線下清洗（膜元件取下）二種方法。前面一種用時短，但實際效果不佳；后面一種用時久，清洗完全。