蘇州工業(yè)園區(qū)諾泰盈電子有限公司是一家專(zhuān)業(yè)從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業(yè)。

主要產(chǎn)品有：導(dǎo)光膜/銅鋁箔/導(dǎo)電雙面/導(dǎo)電布/鈹銅彈片/吸波材/導(dǎo)電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。

顯影液參數(shù)

顯影液的濃度是指顯影劑的相對(duì)含量，即NaOH、Na2SiO3總含量。市場(chǎng)上銷(xiāo)售的顯影液多是濃縮型液體，使用時(shí)需要按比例稀釋?zhuān)@影液的濃度多以顯影液的稀釋比來(lái)表示。在其他條件不變的前提下，顯影速度與顯影液濃度成正比關(guān)系，即顯影液濃度越大，顯影速度越快。為了減緩顯影液氧化過(guò)程和延長(zhǎng)其使用時(shí)間，須往顯影液中加進(jìn)保存物質(zhì)或保護(hù)物質(zhì)。

顯影液用途

通過(guò)對(duì)各組分不同用量的調(diào)配可以得到不同性能的顯影液，如微粒顯影液、高反差顯影液等。工業(yè)上說(shuō)的顯影劑，是針對(duì)半導(dǎo)體晶片而言。系列有顯影劑、光刻膠等。

常見(jiàn)問(wèn)題

a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。

顯影液組成成分的作用與顯影液的配方

甘氨酸是作用極慢的，可洗出軟影調(diào)低反差的底片，能夠很好地表現(xiàn)陰影部位上的細(xì)部，而灰霧度很小。甘氨酸可用作制備微粒顯影用平衡顯影液。甘氨酸不易溶于水，而易溶于堿性溶液中。長(zhǎng)期以來(lái)，一直使用休貝爾濃縮液， 這是甘氨酸顯影液的濃縮溶液，很易于貯存。顯影液組成成分的作用與顯影液的配方現(xiàn)在，攝影愛(ài)好者已很少使用甘氨酸。甘氨酸常被 用來(lái)與米吐?tīng)?、二酚及菲尼酮配合使用?

反差顯影液的特點(diǎn)是含有高濃度的堿(通常是鈉 成寄性鉀)及增量的顯影物質(zhì)。此種顯影液是活性很強(qiáng)的，因此為了防止過(guò)大的感光灰霧，應(yīng)增加化鉀的含量，使之達(dá)5克/升，以致更高些。幾乎所有的反差顯影液均含有較多量的二酚，因而可保證洗出較高的光學(xué)密度，尤其是曝光強(qiáng)的郡位，所以也就提高了影像的反差。有時(shí)也使用另一種顯影液，即沖洗工程感光材料及反整線條原件的反整性顯影液。