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稀釋劑的粘合作用
1.非活性稀釋劑這種稀釋劑的分子中不含有活性基團(tuán),大都是惰性溶劑,如乙醇、、等。在稀釋過程中不參加反應(yīng),它只是共混于樹脂之中并起到降低黏度的目的。除了起到稀釋作用之外,對(duì)機(jī)械性能、熱變形溫度、耐介質(zhì)及老化破壞等都有影響。應(yīng)考慮到溶劑的揮發(fā)速度,若揮發(fā)速度太快,膠層表面易結(jié)成膜,妨礙膠層內(nèi)部溶劑的逸出。導(dǎo)致膠層中產(chǎn)生氣泡;若揮發(fā)速度太慢,則在膠層內(nèi)留有溶劑,從而會(huì)影響膠接強(qiáng)度。通常采用幾種不同沸點(diǎn)的溶劑相混來調(diào)節(jié)揮發(fā)速度。它多用于橡膠型膠粘劑、酚醛型膠粘劑、聚酯型膠粘劑和環(huán)氧膠粘劑等。
2.活性稀釋劑活性稀釋劑是分子中含有活性基團(tuán)的稀釋劑。它在稀釋膠粘劑的過程中要參加反應(yīng),同時(shí)還能起增韌作用(如在環(huán)氧型膠粘劑中加入甘油環(huán)氧樹脂或丁基醚等就能起增韌作用)。
天那水、洗板水、酒精清洗劑三者間的區(qū)別
1、天那水
天那水屬工業(yè)用劑,含有對(duì)人體有害的成份,氣味大,反應(yīng)強(qiáng)烈,價(jià)格居于酒精與洗板水之間。
天那水又名香蕉水,其主要成份為苯系物等芳烴類物質(zhì),具有香蕉般的氣味。天那水作為噴漆工業(yè)的溶劑和稀釋劑,在玩具,膠絲花,家私,彩印,電子,印花等行業(yè)廣泛采用。天那水通過呼吸道和皮膚進(jìn)入人體,使用時(shí)要戴口罩,工作環(huán)境要保持通風(fēng)。
2、酒精
分工業(yè)酒精和酒精,工業(yè)酒精便宜、酒精較貴,兩種對(duì)人體基本無傷害,但作用也是小的,酒精只對(duì)松香等少數(shù)殘留物起作用,清洗時(shí)間慢,效果不明顯。一般用來大批量清洗或整體清洗,如清洗整片板卡,可以用大量工業(yè)酒精浸泡清洗,成本低,對(duì)人體和板卡均無傷害;
3、洗板水
是用來板卡類清洗的用劑,可以清洗所有的焊接殘留物。雖然仍含有毒成份,但傷害作用遠(yuǎn)小于天那水,技術(shù)上針對(duì)用途作了無味、低毒處理。價(jià)格較貴,比重也很大,同樣容量,重量要比酒精大得多。
低劣稀釋劑
你覺得那些便宜的稀釋劑真的很便宜嗎?
劣質(zhì)稀釋劑比重大,因此對(duì)相同重量的漆的稀釋用量也大。
來自工業(yè)廢料,揮發(fā)到空氣中,產(chǎn)生極刺鼻的臭味,對(duì)施工人員的身體造成極大的傷害。
三是稀釋力忽強(qiáng)忽弱,揮發(fā)速度忽快忽慢,造成漆膜慢干,失光,發(fā)黑等質(zhì)量問題,嚴(yán)重影響噴漆效果。
四、揮發(fā)入空氣的有害氣體對(duì)環(huán)境造成惡劣影響,加劇空氣品質(zhì)惡化。
稀釋劑配制。
你覺得價(jià)格貴的稀釋劑配伍真的貴嗎?
利用常規(guī)原料,根據(jù)不同的漆基材料研制生產(chǎn)各種漆。
質(zhì)量穩(wěn)定,氣味溫和;
配套稀釋就是根據(jù)涂料的性質(zhì)、種類調(diào)配制作,使用配套稀釋劑,可達(dá)到佳的涂膜效果,成膜質(zhì)量。
下面與您共享兩個(gè)市場(chǎng)應(yīng)用實(shí)例:
薄膜結(jié)構(gòu)制造商:
用晨虹配套稀釋劑后,漆膜硬度、亮度提高,用量也省了劣質(zhì)稀釋劑。
天那水的操作及存儲(chǔ)注意事項(xiàng)
儲(chǔ)存注意事項(xiàng):天那水要儲(chǔ)存于陰涼、通風(fēng)的庫房。遠(yuǎn)離火種、熱源。庫溫不宜超過30℃。應(yīng)與氧化劑、酸類、鹵素分開存放,切忌混儲(chǔ)。采用防爆型照明、通風(fēng)設(shè)施。禁止使用易產(chǎn)生火花的機(jī)械設(shè)備和工具。儲(chǔ)區(qū)應(yīng)備有泄漏應(yīng)急處理設(shè)備和合適的收容材料。
消防措施:
有害燃燒產(chǎn)物:。
滅火方法:消防人員須佩戴防毒面具、穿全身消防服,在上風(fēng)向滅火。盡可能將容器從火場(chǎng)移至空曠處。噴水保持火場(chǎng)容器冷卻,直至滅火結(jié)束。處在火場(chǎng)中的容器若已變色或從安全泄壓裝置中產(chǎn)生聲音,必須馬上撤離。
滅火劑:霧狀水、泡沫、干粉、二氧化碳、砂土。
泄漏應(yīng)急處理:
應(yīng)急處理:迅速撤離泄漏污染區(qū)人員至安全區(qū),并進(jìn)行隔離,嚴(yán)格限制出入。切斷火源。建議應(yīng)急處理人員戴自給正壓式呼吸器,穿防毒服。盡可能切斷泄漏源。防止天那水流入下水道、排洪溝等限制性空間。