手機納米膜真空鍍膜與電鍍的區(qū)別

真空鍍膜又稱真空離子鍍，是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種全新的干式鍍膜方法。過去物體表面鍍制薄膜作為物體表面改性的手段是采用濕式的電鍍發(fā)或化學(xué)鍍法。

在電鍍法中，被電解的離子鍍到作為電解液中另一個電機的被鍍件表面上而成膜，因此，其基體必須是良導(dǎo)體，度也難以控制。

(1)水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、魔幻藍(lán)、裂紋、水滴銀等，五花八門的七彩色就無能為力了;而真空電鍍可以解決七彩色的問題，可鍍金色、紅色、藍(lán)色等各種顏色。

(2)真空鍍膜的附著力(附著強度)好，膜層十分牢固，不易脫落。

(3)真空鍍膜的膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。

(4)電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，這是非環(huán)保材料，無法出口歐美市場，而真空電鍍的鍍層材質(zhì)為鋁，安全環(huán)保，能達(dá)到歐美市場的環(huán)保監(jiān)測指標(biāo)。

光學(xué)鍍膜機維護與保養(yǎng)當(dāng)濃度電解試驗真空鍍膜設(shè)備不變

當(dāng)濃度電解試驗真空鍍膜設(shè)備不變，鍍膜機改變電流密度、電解液的溫度，光滑（硬）的鉻可以得到三種不同的晶格層，即灰色的臉，明亮和乳白色鉻層。

1）灰色鉻層在低的溫度下獲得的，鍍膜機在高電流密度下的鉻層。從高高的程度（HV=uoo），韌性的方法，一個網(wǎng)狀圖案，色彩濃烈，黑暗水晶。用測量工具，鍍鉻。

2）亮鉻層是在介質(zhì)溫度得到的鉻層，鍍膜機小電流密度。高硬度（HV=800），韌性好，耐磨，內(nèi)應(yīng)力小，密集的網(wǎng)格線，細(xì)晶，表面光亮。適用于磨損零件的修復(fù)。

2）乳白鉻層是在較高的溫度下得到的鉻層，鍍膜機電流密度低，硬度低的塑料涂層機（HV=400-500），塑性好，無網(wǎng)狀，細(xì)晶，像白色的，適用于沖擊載荷的零件增加尺寸和鍍裝飾鉻。

多孔（松孔鍍鉻，鍍鉻層）鍍膜機與點狀鉻層及鉻層溝狀兩種，可用電化學(xué)方法和機械方法。多孔鍍鉻吸附潤滑油的性能。因此，具有更好的耐磨性。

當(dāng)預(yù)定線路鍍鉻陰極上的鍍鉻部件，這將導(dǎo)致陽極，鍍膜機把人格的酸溶液中電解（電解放電），通過DC，鉻層表面涂有一層薄而均勻的！

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PVD鍍膜膜層的特點及厚度

PVD鍍膜膜層的特點,采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點，膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。 PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類,PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜(TiN、ZrN、CrN、TiAlN)和碳化物膜(TiC、TiCN),以及氧化物膜(如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度—PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。