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NR71 3000PY光刻膠公司量大從優(yōu)「賽米萊德」

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發(fā)布時(shí)間:2021-10-25 06:09  






光刻膠應(yīng)用

光刻膠是一種具有光化學(xué)敏感性的功能性化學(xué)材料,是由光引發(fā)劑(包括光增感劑、光致產(chǎn)酸劑)、光刻膠樹(shù)脂、單體(活性稀釋劑)、溶劑和其他助劑組成的對(duì)光敏感的混合液體,其中,樹(shù)脂約占50%,單體約占35%。它能通過(guò)光化學(xué)反應(yīng)改變自身在顯影液中的溶解性,通過(guò)將光刻膠均勻涂布在硅片、玻璃和金屬等不同的襯底上,利用它的光化學(xué)敏感性,通過(guò)曝光、顯影、刻蝕等工藝過(guò)程,將設(shè)計(jì)在掩膜版上的圖形轉(zhuǎn)移到襯底上。

光刻膠常被稱為是精細(xì)化工行業(yè)技術(shù)壁壘的材料,是因?yàn)槲⒚准?jí)乃至納米級(jí)的圖形加工對(duì)其專用化學(xué)品的要求極高,不僅化學(xué)結(jié)構(gòu)特殊,品質(zhì)要求也很苛刻,所以生產(chǎn)工藝復(fù)雜,需要長(zhǎng)期的技術(shù)積累。

被廣泛應(yīng)用于光電信息產(chǎn)業(yè)的微細(xì)圖形線路的加工制作,是電子制造領(lǐng)域的關(guān)鍵材料之一。下游主要用于集成電路、面板和分立器件的微細(xì)加工,同時(shí)在LED、光伏、磁頭及精密傳感器等制作過(guò)程中也有廣泛應(yīng)用,是微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性材料。

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光刻膠定義

以下是賽米萊德為您一起分享的內(nèi)容,賽米萊德專業(yè)生產(chǎn)光刻膠,歡迎新老客戶蒞臨。

光刻膠是一大類(lèi)具有光敏化學(xué)作用(或?qū)﹄娮幽芰棵舾?的高分子聚合物材料,是轉(zhuǎn)移紫外曝光或電子束曝照?qǐng)D案的媒介。光刻膠的英文名為resist,又翻譯為抗蝕劑、光阻等。因?yàn)楣饪棠z的作用就是作為抗刻蝕層保護(hù)襯底表面。光刻膠只是一種形象的說(shuō)法,因?yàn)楣饪棠z從外觀上呈現(xiàn)為膠狀液體。

光刻膠通常是以薄膜形式均勻覆蓋于基材表面。當(dāng)紫外光或電子束的照射時(shí),光刻膠材料本身的特性會(huì)發(fā)生改變,經(jīng)過(guò)顯影液顯影后,曝光的負(fù)性光刻膠或未曝光的正性光刻膠將會(huì)留在襯底表面,這樣就將設(shè)計(jì)的微納結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到了光刻膠上,而后續(xù)的刻蝕、沉積等工藝,就可進(jìn)一步將此圖案轉(zhuǎn)移到光刻膠下面的襯底上,后再使用除膠劑將光刻膠除去就可以了。

光刻膠按其形成圖形的極性可以分為:正性光刻膠和負(fù)性光刻膠。正膠指的是聚合物的長(zhǎng)鏈分子因光照而截?cái)喑啥替湻肿?;?fù)膠指的是聚合物的短鏈分子因光照而交鏈長(zhǎng)鏈分子。 短鏈分子聚合物可以被顯影液溶解掉,因此正膠的曝光部分被去掉,而負(fù)膠的曝光部分被保留。

光刻膠一般由4部分組成:樹(shù)脂型聚合物(resin/polymer),溶劑(solvent),光活性物質(zhì)(photoactive compound,PAC),添加劑(Additive)。 其中,樹(shù)脂型聚合物是光刻膠的主體,它使光刻膠具有耐刻蝕性能;溶劑使光刻膠處于液體狀態(tài),便于涂覆;光活性物質(zhì)是控制光刻膠對(duì)某一特定波長(zhǎng)光/電子束/離子束/X射線等感光,并發(fā)生相應(yīng)的化學(xué)反應(yīng);添加劑是用以改變光刻膠的某些特性,如控制膠的光吸收率/溶解度等。



光刻膠分類(lèi)

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