義烏市龍港制版有限公司與您分享凹印制版中研磨道原因分析：

研磨道是在研磨過(guò)程中，砂輪在版面研磨不均勻造成，主要與版輥轉(zhuǎn)速、磨頭行走速度、砂輪轉(zhuǎn)速、壓力大小相關(guān)；研磨機(jī)磨頭壓力一般控制在60-80kg為宜（需要專業(yè)壓力設(shè)備檢測(cè)），壓力過(guò)大研磨均勻性越差；一般砂輪轉(zhuǎn)速是版輥轉(zhuǎn)速的2-3倍為宜（直徑細(xì)的3倍，直徑粗的2倍）；防止版輥在研磨過(guò)程中震動(dòng)，研磨前要加裝防震措施；磨頭行走速度不宜過(guò)快，一般在1cm范圍內(nèi)分布8-9條研磨紋為宜，也就是說(shuō)磨頭每行走1cm，版輥旋轉(zhuǎn)8-9圈；磨頭行走絲杠和絲套配合間隙要得當(dāng)，避免磨頭行走變?yōu)椴竭M(jìn)方式，加重研磨均勻性；研磨機(jī)磨頭主軸與垂直夾角一般在5-10度為宜；更換質(zhì)地相對(duì)較軟的砂輪，提高研磨均勻性。

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義烏市龍港制版有限公司與您分享后曝光知識(shí)：

在印版處理過(guò)程中，底基和圖像浮雕側(cè)面的感光樹(shù)脂部分被硬化。這些部分有些黏，因而需要在高能量的紫外光下進(jìn)一步曝光。對(duì)于大多數(shù)的感光樹(shù)脂來(lái)說(shuō)，在標(biāo)準(zhǔn)的曝光燈下，氧的存在會(huì)意志其硬化行為。因此，特殊的短波長(zhǎng)uv-c燈就被用于對(duì)印版表面進(jìn)行去黏。去黏和后曝光的結(jié)合，可以確保整個(gè)印版被充分的硬化和適宜的印刷物理特性。