化學(xué)拋光工藝有哪些特點(diǎn)？

首先，化學(xué)拋光設(shè)備簡(jiǎn)單，無(wú)需電源設(shè)備。其次，化學(xué)拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因?yàn)檫@些原因，化學(xué)拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學(xué)拋光的優(yōu)點(diǎn)是：不需外加電源,可以處理形狀更為復(fù)雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學(xué)拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過程中會(huì)析出氧化氮等有害氣體。

化學(xué)拋光液的成分隨拋光材料的不同而不同。一般為混合酸液?；瘜W(xué)拋光溶液由氧化劑和粘滯劑組成。氧化劑起拋光作用，它們是酸類和。常用的酸類有：正磷酸、鉻酸、硫酸、醋酸、、等等。粘滯劑用于控制溶液中的擴(kuò)散和對(duì)流速度，使化學(xué)拋光過程均勻進(jìn)行。

化學(xué)拋光廣泛應(yīng)用于不銹鋼、銅及鋁合金等的拋光，還用于對(duì)一些零件做裝飾加工?；瘜W(xué)拋光可作為電鍍前的處理工序，也可在拋光后輔以必要的防護(hù)措施而直接使用。

被拋光表面的光亮度，可通過選用不同的工藝規(guī)范來(lái)控制。對(duì)某些光亮度要求很高的制件，僅用化學(xué)拋光不容易達(dá)到要求，通?；瘜W(xué)拋光的光亮度不及機(jī)械拋光，有時(shí)化學(xué)拋光后還需機(jī)械拋光?；瘜W(xué)拋光前，必須對(duì)拋光制件進(jìn)行清洗，包括除油污和除銹蝕。工藝的性較強(qiáng)。

化學(xué)拋光不只限于能獲得光亮的金屬表面，它還對(duì)金屬的許多物理原化學(xué)性質(zhì)及腐蝕性質(zhì)有良好的影響。眾所周知，化學(xué)拋光能改善金屬的光學(xué)性質(zhì)(反光系數(shù)或光反射率)和機(jī)械性能，減小金屬之間的摩擦系數(shù)，提高金屬在冷作狀態(tài)下的塑性變形能力，增大某些磁性材料的導(dǎo)磁系數(shù)，消除冷發(fā)射現(xiàn)象等