PLD450型脈沖激光鍍膜介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)脈沖激光沉積供應(yīng)商，我們?yōu)槟鷰硪韵滦畔ⅰ?

主要用途：　　

用于制備超導(dǎo)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。適用于各大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備?！　?

系統(tǒng)組成:　　

主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成?！　?

脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質(zhì)沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

以上就是為大家介紹的全部內(nèi)容，希望對大家有所幫助。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯(lián)系我們。

脈沖激光沉積的優(yōu)點

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1. 易獲得期望化學(xué)計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性；

2. 沉積速率高，試驗周期短，襯底溫度要求低，制備的薄膜均勻；

3. 工藝參數(shù)任意調(diào)節(jié)，對靶材的種類沒有限制；

4. 發(fā)展?jié)摿薮螅哂袠O大的兼容性；

5. 便于清潔處理，可以制備多種薄膜材料。

脈沖激光沉積系統(tǒng)的配置介紹

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)、銷售脈沖激光沉積，我們?yōu)槟治鲈摦a(chǎn)品的以下信息。

1.靶: 數(shù)量6個，大小1-2英寸，被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn)，靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片，大小2英寸，加熱溫度可達1200攝氏度，溫度差<3%，加熱時基板可旋轉(zhuǎn)，工作環(huán)境的壓力可達300mtorr;

3.基板加熱電源，高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質(zhì)，內(nèi)表面電解拋光，本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;

11.監(jiān)控系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定，基板和靶的旋轉(zhuǎn)，靶的更換等;

12.各種電流導(dǎo)入及測溫端子;

13.其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺，磁力傳輸桿，超高真空法蘭，超高真空密封墊圈，超高真空用波紋管等;