電鍍硬鉻技術(shù)層次鍍鉻對(duì)電源的性能要求比較高，特別是紋波因數(shù)和穩(wěn)定精度在鍍鉻工藝控制曲線范圍內(nèi)，只有保持一定的電流密度精度，才能保證各鍍鉻層質(zhì)量的穩(wěn)定。根據(jù)有關(guān)的資料和經(jīng)驗(yàn)，鍍槽中的溶液在電流密度大于某一值時(shí)才起化學(xué)反應(yīng)。一般把紋波因數(shù)定在額定功率備件下的電流或電壓的20%時(shí)，紋波因數(shù)小于5%，要求控制精度為1%。為了保證電源性能達(dá)到上述工藝要求。

鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

陰極電流密度過大 在鍍鉻過程中，陰極電流密度與溫度之間存在著相互依賴的關(guān)系。在同一溶液中鍍鉻時(shí)，通過調(diào)整溫度和電流密度，并控制在適當(dāng)?shù)姆秶鷥?nèi)，可以獲得光亮鉻、硬鉻和乳白鉻三種不同性能的鍍鉻層。在低溫高電流密度區(qū)，鉻鍍層呈灰暗色或燒焦，這種鍍層具有網(wǎng)狀裂紋、硬度大、脆性大；高溫低電流密度區(qū)，鉻層呈乳白色，這種組織細(xì)致、氣孔少、無裂紋，防護(hù)性能較好，但硬度低，耐磨性差；中溫中電流密度區(qū)或兩者配合較好時(shí)，可獲得光亮鍍鉻層，這種鉻層硬度較高，有細(xì)而稠密的網(wǎng)狀裂紋。若配合不當(dāng)，對(duì)鍍鉻溶液的陰極電流效率、分散能力、鍍層的硬度和光亮度都有很大的影響。如鍍液溫度高達(dá)70℃左右，那么即使升高電流密度，也難以得到光亮的鍍層。生產(chǎn)上一般采用中等溫度(45～60℃)與中等電流密度(30～45A／dm2)以得到光亮度和硬度較高的鉻鍍層。盡管鍍?nèi)」饬铃儗拥墓に嚄l件相當(dāng)寬，但考慮到鍍鉻液的分散能力特別差，在形狀復(fù)雜的零件鍍裝飾鉻或硬鉻時(shí)，要在不同部位都鍍上厚度均勻的鉻層，必須嚴(yán)格控制溫度和電流密度。當(dāng)鍍鉻工藝條件確定后，鍍液的溫度變化控制在±2℃以內(nèi)。

鍍硬鉻鍍層粗糙有鉻瘤的原因及處理辦法

(1)陰陽極間距太近

提高鍍層的均勻性，只有改變初次電流分布，即改變幾何因素來提高鍍層的均勻性

處理方法：控制陰極與陽極間距離大于200mm，使工件的相對(duì)幾何尺寸縮小，保證陰極電力線分布均勻

(2)工件凸凹處未使用陰極保護(hù)

處理方法：采用陰極保護(hù)，合理布置陽極

硬鉻電鍍提髙效率與質(zhì)量的方法：

微裂紋硬鉻添加劑屬于第三代添加劑，在保持了第二代添加劑（如稀土、草酸）的（高速度，高硬度與高微裂紋）的同時(shí)，又解決了對(duì)陽極的腐蝕、工件低電位區(qū)的腐蝕等。性能穩(wěn)定生產(chǎn)效率髙，能耗少，廣泛應(yīng)用到航空，，汽車，摩托車，制版造紙機(jī)械，紡織機(jī)械等行業(yè)。降低了成本，提高了經(jīng)濟(jì)效益，并且對(duì)環(huán)境的保護(hù)起了極大的作用。

工藝特點(diǎn)：

① 陰極電流效率髙（達(dá)25~25%），沉積速度快（比傳統(tǒng)鍍鉻工藝快一倍以上。在陰極電流密度60A/dm2，溫度55~65°C時(shí)，電流效率達(dá)到60um/h。

② 鉻層硬度高（860～1200，按GB9790－88）。耐磨損摩擦性好（比傳統(tǒng)鍍鉻可提高20～30%）。

③ 鉻層微裂紋多（可達(dá)200～1000條/cm2），耐腐蝕性提高（比傳統(tǒng)鍍鉻可提高一倍）。

④ 鍍層與基體結(jié)合力強(qiáng)，前處理與傳統(tǒng)鍍鉻相同，操作容易。