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膜厚儀一般來(lái)說(shuō)和涂層測(cè)厚儀是一類產(chǎn)品。
膜厚儀一般是測(cè)氧化膜層厚度,常見(jiàn)的鋁基,銅基氧化,測(cè)量時(shí)候用涂層測(cè)厚儀選擇N(非磁性)探頭,這樣測(cè)鋁基等氧化層也稱為膜厚儀。
涂層測(cè)厚儀正常情況下有兩種測(cè)量原理,配F合N探頭,或者FN一體探頭。氧化層一般是幾微米到十幾微米,但是普通的涂層測(cè)厚儀誤差比較大,需要用的涂層測(cè)厚儀測(cè)量氧化層,比如中科樸道的PD-CT2涂層測(cè)厚儀就可以測(cè)量氧化層。
膜厚儀檢測(cè)的方法
國(guó)內(nèi)外已普遍按統(tǒng)一的國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)測(cè)定涂鍍層厚度,覆層無(wú)損檢測(cè)的方法和儀器的選擇隨著材料物理性質(zhì)研究方面的逐漸進(jìn)步而更加至關(guān)重要。
有關(guān)覆層無(wú)損檢測(cè)方法,主要有:楔切法、光截法、電解法、厚度差測(cè)量法、稱重法、X射線瑩光法、β射線反射法、電容法、磁性測(cè)量法及渦流測(cè)量法等。這些方法中除了后五種外大多都要損壞產(chǎn)品或產(chǎn)品表面,系有損檢測(cè),測(cè)量手段繁瑣,速度慢,多適用于抽樣檢驗(yàn)。主要有兩個(gè)原因:(1)開(kāi)機(jī)時(shí)探頭離鐵基太近,因?yàn)殍F基磁場(chǎng)的影響而受到了干擾。