真空鍍膜機為塑料件鍍膜時抽真空時間長的原因

1、真空室有漏氣現(xiàn)象：大家都知道，多弧離子鍍膜機是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時間都不能抽得上來的；

2、即使真空室沒有漏氣，因為塑料產(chǎn)品的放氣量大，所以抽真空，濺控濺射鍍膜機特別是高真空很難達到。而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。

手機納米膜真空鍍膜與電鍍的區(qū)別

真空鍍膜又稱真空離子鍍，是不采用溶液或電能液而制備薄膜的一種全新的干式鍍膜方法。過去物體表面鍍制薄膜作為物體表面改性的手段是采用濕式的電鍍發(fā)或化學鍍法。

在電鍍法中，被電解的離子鍍到作為電解液中另一個電機的被鍍件表面上而成膜，因此，其基體必須是良導體，度也難以控制。

(1)水電鍍顏色較單調(diào)，一般只有亮銀和亞銀等少數(shù)幾種，對于閃銀、魔幻藍、裂紋、水滴銀等，五花八門的七彩色就無能為力了;而真空電鍍可以解決七彩色的問題，可鍍金色、紅色、藍色等各種顏色。

(2)真空鍍膜的附著力(附著強度)好，膜層十分牢固，不易脫落。

(3)真空鍍膜的膜材和基體材料有廣泛的選擇性，可制備各種不同的功能性涂層。

(4)電鍍一般的鍍層材質(zhì)采用“六價鉻”，這是非環(huán)保材料，無法出口歐美市場，而真空電鍍的鍍層材質(zhì)為鋁，安全環(huán)保，能達到歐美市場的環(huán)保監(jiān)測指標。

真空鍍膜設備工件是怎么去除氣的呢？

真空鍍膜設備如何操作,它的工件該怎么除氣

真空鍍膜產(chǎn)品普及到生活方方面面，真空鍍膜設備也就要求越來越高，很早以前物品鍍膜，只是為了耐用，防老化，隨著時間的推移，鍍膜現(xiàn)在不僅僅只是耐用，更多外形上的美觀。因此現(xiàn)在膜層已經(jīng)花樣百出，顏色各不相同，甚至不同行業(yè)的，鍍膜設備的型號和功能也不盡相同，自然鍍膜工程師技術要求更高。然后鍍膜設備在運行的過程中，鍍膜工程師總會遇到工件除氣的問題，下面至成真空小編為大家講解一下真空鍍膜設備的操作方法及工件該如何去除氣。

真空鍍膜設備操作，大家剛開始接觸的時候，先記住步驟，后面再慢慢實踐，我們在準備操作鍍膜設備的時候，首先要檢查真空鍍膜設備各操作控制開關是否在"關"位置，然后打開總電源開關，真空鍍膜設備送電，再接著低壓閥拉出，開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動升鐘罩閥，鐘罩升起。這時安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物，接著落下鐘罩，啟動真空鍍膜設備抽真空機械泵，后面就要開復合真空計電源（復合真空計型號：Fzh-1A)。設備當?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時針移動至6.7Pa時，低壓閥推入。繼續(xù)開通冷卻水，啟動擴散泵，加熱40min。低壓閥拉出時，立式單開門鍍膜機重復一次⑦動作程序：左下旋鈕“1”轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。

真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜優(yōu)勢所在鍍膜技能商品技能特色

據(jù)調(diào)查顯示，對于沉積速率，真空鍍膜機技術中的磁控濺射鍍膜運用效果很好。有項研究就是對平衡磁控濺射鍍膜和非平衡磁控濺射鍍膜進行各種對比。在這兩者之前，對其成膜的沉積速率的不同作出了實驗研究。

在實驗中，通過是平衡磁控濺射的基礎上增加附加的線圈來控制磁場的變化，形成非平衡磁控濺射條件，這種附加線圈可以改變磁場電流，調(diào)整在整個靶材表面所存在的磁場狀況，從而使其產(chǎn)生的離子密度更高，在研究數(shù)據(jù)中顯示，當離子密度提高，成膜的沉積速率也相應提高，通過這種調(diào)整電流的方式，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。

把靶材與基底之間的距離改變，當距離越大，沉積速率就越低，相反就越高，所以要設定好靶材與基底的距離，距離大了，離子隨著磁場所產(chǎn)生的電流沉積到基底上的時間就長了，在此時間內(nèi)受到真空鍍膜設備中的氣體散射的影響就多了，離子密度相對降低，距離短就受影響少，離子密度就高，但不是越短越好的，太短距離就相對減少成膜的面積，所以這個距離需要拿捏好，可以提高磁控濺射鍍膜時的沉積速率。從上述的表述我們可以知道，磁控濺射鍍膜機的技術還是十分有效的