化學(xué)氣相沉積加工加工過(guò)程中的常見(jiàn)故障排除

化學(xué)氣相沉積加工加工工藝流程比較長(zhǎng)、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會(huì)很多。如化學(xué)氣相沉積加工前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調(diào)及雜質(zhì)污染、生產(chǎn)環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個(gè)細(xì)節(jié)之中。

化學(xué)氣相沉積加工加工在影響產(chǎn)品質(zhì)量的五大因素〔操作者、設(shè)備、材料、工藝方法及生產(chǎn)環(huán)境)中，人是位的?；瘜W(xué)氣相沉積加工故障的發(fā)生都與操作工專(zhuān)業(yè)技能和工作責(zé)任心有關(guān)?；瘜W(xué)氣相沉積加工生產(chǎn)管理人員對(duì)操作工指導(dǎo)和監(jiān)督不力，這些在PVD鍍膜企業(yè)較普遍存在的狀況,化學(xué)氣相沉積加工使得故障在所難免。要減少化學(xué)氣相沉積加工生產(chǎn)故障，提高化學(xué)氣相沉積加工從業(yè)人員的專(zhuān)業(yè)技能和工作責(zé)任心是十分重要的。隨著鍍膜技術(shù)的不斷推廣，光學(xué)鍍膜技術(shù)的應(yīng)用領(lǐng)域也在不斷拓寬，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將隨著我們生活水平的提高為我們的生活帶來(lái)更多的精彩。

高真空離子鍍適用范圍比較廣，如ABS料、ABS PC料、PC料的商品。傳統(tǒng)水電鍍技術(shù)流程雜亂、環(huán)境污染大、設(shè)備成本高、對(duì)作業(yè)人員身體傷害大，電鍍出來(lái)產(chǎn)品外觀損壞大，產(chǎn)品穩(wěn)定性差。而高真空離子鍍它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，也就是我們俗稱(chēng)的真空鍍膜。不僅適合于有潔凈要求的工業(yè)部門(mén)，也適合于真空對(duì)潔凈環(huán)境的要求。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱(chēng)基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱(chēng)為真空鍍膜。用Parylene涂敷的集成電路硅片細(xì)引線可加固5-10倍，Parylene還能滲透到硅片下面，提高硅片的結(jié)合強(qiáng)度，提高集成電路的可靠性。

1. 房間隔缺損封堵器：派瑞林作為涂層置于傳統(tǒng)的鎳鈦合金封堵器表面，這種涂層超薄同形性好、耐腐蝕、與人體組織及血液良好相容，它不僅提供了惰性、生物相容的隔離層，還可有效的防止外界的化學(xué)品、水分和體液的侵蝕，同時(shí)增加了封堵器表面的干潤(rùn)性和絕緣性能，并可防止鎳離子析出對(duì)細(xì)胞組織的損害。因此直接蒸鍍法對(duì)基材有較大的局限性，它主要適合于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質(zhì)量要求高，并對(duì)紙的定量有限度。

2. 壓力傳感器——敏感的電子器件如血壓傳感器，只需沉積少量Parylene就能充分絕緣，而且少量保護(hù)涂層不會(huì)明顯改變這些器件的操作。