真空鍍膜技術(shù)之物理氣相沉積技術(shù)，它利用某種物理過程，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)，或受到離子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移過程。物理氣相沉積技術(shù)具有膜/基結(jié)合力好、薄膜均勻致密、薄膜厚度可控性好、應(yīng)用的靶材廣泛、濺射范圍寬、可沉積厚膜、可制取成分穩(wěn)定的合金膜和重復(fù)性好等優(yōu)點。

真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能，供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜的功能是多方面的，這也決定了其應(yīng)用場合非常豐富。總體來說，真空鍍膜的主要功能包括賦予被鍍件表面高度金屬光澤和鏡面效果，在薄膜材料上使膜層具有出色的阻隔性能， 供優(yōu)異的電磁屏蔽和導(dǎo)電效果。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。真空鍍的基本原理：在真空條件下，金屬、金屬合金等被蒸發(fā)蒸發(fā)，然后沉積到基體表面，蒸發(fā)法通常采用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使其蒸發(fā)成氣相，然后沉積到基體表面。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。真空鍍膜有三種形式,即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍.蒸發(fā)鍍膜 通過加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。