隨著全球制造業(yè)高速發(fā)展，真空鍍膜技術(shù)應(yīng)用越來(lái)越廣泛。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來(lái)看，對(duì)真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜;數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀(jì)錄儲(chǔ)存膜;充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜;計(jì)算機(jī)顯示用的感光膜;TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜;建筑、汽車(chē)行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領(lǐng)域用防護(hù)膜、阻隔膜;裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜;工、模具表面上應(yīng)用的耐磨超硬膜;納米材料研究方面的各種功能性薄膜等。PVD是物理氣相沉積技術(shù)的簡(jiǎn)稱(chēng)，是指在真空條件下，采用物理的方法將材料（俗稱(chēng)靶材或膜料）氣化成氣態(tài)分子、原子或離子，并將其沉積在工件形成具有某種特殊功能的薄膜的技術(shù)，常見(jiàn)的PVD沉積技術(shù)有：蒸發(fā)技術(shù)、濺射技術(shù)、電弧技術(shù)。

而陽(yáng)光控制膜和低輻射膜正好能彌補(bǔ)了普通玻璃在這一方面的不足。陽(yáng)光控制膜可以滿(mǎn)足低緯度地區(qū)降低室內(nèi)溫度的要求；而低輻射膜則能滿(mǎn)足高緯度地區(qū)充分接受太陽(yáng)輻射能量和阻止室內(nèi)熱量外流的要求。觀察渦輪分子泵讀數(shù)到達(dá)250以后，關(guān)予抽，開(kāi)前機(jī)和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達(dá)一定程度后才能開(kāi)右邊的高真空表頭，觀察真空度。 在玻璃上，鍍涂一層TiO2就能使其變成防霧、防露和自清潔玻璃。這種工藝在汽車(chē)玻璃上有很好的應(yīng)用。多弧離子鍍膜機(jī)

鍍膜技術(shù)在平板顯示器中的應(yīng)用 所有各類(lèi)平板顯示器都要用到各種類(lèi)型的薄膜，而且?guī)缀跛蓄?lèi)型的平板顯示器件都需要使用ITO膜，以滿(mǎn)足透明電器的要求?？梢院敛豢鋸埖恼f(shuō)：沒(méi)有薄膜技術(shù)就沒(méi)有平板顯示器件。

真空鍍膜主要指一類(lèi)需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜。真空鍍膜設(shè)備若有灰塵，將會(huì)影響真空鍍膜的效果和質(zhì)量。從半導(dǎo)體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽(yáng)能光伏、化工、制藥等行業(yè)的發(fā)展來(lái)看，對(duì)真空鍍膜設(shè)備、技術(shù)、材料需求都在不斷增加，包括制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜。真空鍍膜設(shè)備真空熱處理是指金屬制件在真空或先抽真空后通惰性氣體條件下加熱，然后在油或氣體中淬火冷卻的技術(shù)。由于真空熱處理時(shí)，工件基本不氧化，鋼件不脫碳，采用通氣對(duì)流加熱方式還可使加熱均勻，減少表面和心部的溫差，從而也減少畸變。目前它已成為工模具不可或缺和的熱處理工藝。

  在真空條件下加熱工件，主要依賴(lài)輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢