溶劑凈化系統(tǒng)

名稱：溶劑凈化系統(tǒng)及其方法

技術領域：本發(fā)明涉及一種溶劑凈化系統(tǒng)和方法。例如，合成和有機金屬化學需要非常高純 度的溶劑。尤其是，合成化學需要去除氧氣和潮濕成分的溶劑。有機金屬化學甚至需要對 潮濕成分更高純度的溶劑。換句話說，在使用之前，溶劑需要被'干燥'。

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關于環(huán)保溶劑型清洗劑和環(huán)保水基型清洗劑的比較說明

眾所周知，當前工業(yè)清洗劑主要分為溶劑型和水基型兩種，那么在實際應用中它們又有哪些區(qū)別呢？

1、 環(huán)保方面：

碳氫清洗劑屬于ODS類物質，對大氣臭氧層有破壞作用，屬于環(huán)?？刂莆镔|，水基溶劑是環(huán)保的、無毒的，可直接排放。

2、 設備方面：

水基型清洗后要用純水漂洗，并需烘干，用電量稍大一些，同時占地面積相對較大，設備成本也對較高。機電設備清洗劑清洗后能自然發(fā)揮，工位相對較少，耗電量約低于水基清洗設備，它的占地面積相對較小。

3、 清洗效果方面

碳氫清洗劑采用的是直接溶解所以超聲波清洗速度快，周期短，效果直接，徹底。水基清洗是采用洗劑替換的方式，并且是兩次替換（次是溶劑替換油污等雜質，第二次是純水替換溶劑），替換后還需要烘干，故相對清洗時間較長，但水基清洗后沒有殘留問題。

4、 使用成本方面

環(huán)保溶劑型清洗劑使用原液清洗， 雖然可以重復使用，但由于其高揮發(fā)性，及產品的粘附性，其用量十分大。水基溶劑均是兌水使用，單價雖然約高于有機1溶劑，但用量小。水基漂洗需用純水，但純水的制水成本較低。

綜上所述，兩種清洗均能達到清洗效果，水基清洗的使用成本低，安全、環(huán)保。但設備復雜，溶劑型清洗劑清洗速度快、揮發(fā)快。

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溶劑純化背景

在有機化學實驗中，經常使用各類溶劑作為反應介質或用來分離提純粗產物。由于反應的特點和物質的性質不同，對溶劑規(guī)格的要求也不相同。有些反應(如格氏試劑的制備反應)對溶劑的要求較高，即使微量雜質或水分的存在，也會影響實驗的正常進行。因此在使用油墨之前，能向油墨制造商了解其殘留溶劑傾向，以便做出相應的處理。這種情況下，就需對溶劑進行純化處理，以滿足實驗的正常要求。

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