水晶振蕩監(jiān)控：利用石英晶體振動頻率與其質(zhì)量成反比的原理工作的。但是石英監(jiān)控有一個不好之處就是當(dāng)膜厚增加到厚度后，振動頻率不全然由于石英本身的特性使厚度與頻率之間有線性關(guān)系，此時須使用新的石英振蕩片。

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真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法。

真空電鍍是利用的什麼原理?

在高真空度的條件下，高純度的鍍層金屬（如鋁）在高溫下蒸發(fā)后會自由地飛散開并沉降在工件表面，形成鍍層。氣為保護性氣體，防止氧化反應(yīng)影響鍍層質(zhì)量。

　真空鍍膜就是指在高真空條件下，根據(jù)加熱金屬或非金屬材料，使其揮發(fā)并凝固在鍍件(金屬、半導(dǎo)體材料或?qū)w和絕緣體)表層產(chǎn)生塑料薄膜的方式。比如，真空鍍鋁膜、真空不銹鋼等。真空鍍膜是真空主要用途的一個關(guān)鍵層面。它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，運用物理學(xué)或有機化學(xué)方式，消化吸收離子束、分子結(jié)構(gòu)束、電子束、等離子技術(shù)束、頻射和磁控等一系列新技術(shù)，為科研和具體生產(chǎn)制造出示塑料薄膜制取的新技術(shù)。簡單點來說，在真空中揮發(fā)或磁控濺射金屬、鋁合金或化學(xué)物質(zhì)以干固并堆積在涂敷物件(稱之為板材、板材或底材)上的方式稱之為真空涂敷。

在真空條件下加熱工件，主要依賴輻射。由于輻射傳熱與溫度的4次方成比例，所以在850℃以下輻射效果不高，工件加熱速度很慢；其次，因為金屬材料中的某些合金元素在低壓條件下加熱時有蒸發(fā)損失現(xiàn)象，會造成表面合金元素的貧乏，以致影響其淬火后的表面層性能。對流加熱技術(shù)是指先將真空鍍膜設(shè)備真空爐爐膛抽到一定真空度，然后通以0．1—0．2MPa的惰性（Ar、He）、中性（N2）或還原性（H2）氣體，并在充分攪動條件下施行加熱，與在單純真空條件下比較，加熱速度至少可提高一倍以上。