潔凈室中的溫濕度控制

潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來越嚴(yán)的趨勢(shì)。具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對(duì)濕度超過55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的越難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)的濕度范圍為35—45%。1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。

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工程的規(guī)劃首先要加強(qiáng)對(duì)設(shè)計(jì)單位設(shè)計(jì)凈化工程圖紙質(zhì)量的外部監(jiān)督與審查。充分發(fā)揮潔凈室圖紙審查中心的職能作用，像工程質(zhì)監(jiān)站監(jiān)督施工質(zhì)量一樣，審查、監(jiān)督設(shè)計(jì)量。潔凈工程圖紙的質(zhì)量高低是關(guān)系到此潔凈工程的建造成本控制等好壞的影響因素。

潔凈工程規(guī)范設(shè)計(jì)概算辦法，確立設(shè)計(jì)概算須經(jīng)過工程標(biāo)準(zhǔn)定額造價(jià)管理站和建行等審定，以確定的投資限額作為取費(fèi)基數(shù)，這樣可去除人為擴(kuò)大設(shè)計(jì)規(guī)模與冒算的費(fèi)用。

薄涂型環(huán)氧樹脂地板施工步驟：