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蚌埠膜厚測(cè)試儀行業(yè)專家在線為您服務(wù)【一六儀器】

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發(fā)布時(shí)間:2021-01-15 10:13  







一六儀器 專業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法  X射線熒光鍍層測(cè)厚儀

應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

薄膜是指在基板的垂直方向上所堆積的1~104的原子層或分子層。在此方向上,薄膜具有微觀結(jié)構(gòu)。

     理想的薄膜厚度是指基片表面和薄膜表面之間的距離。由于薄膜僅在厚度方向是微觀的,其他的兩維方向具有宏觀大小。所以,表示薄膜的形狀,一定要用宏觀方法,即采用長(zhǎng)、寬、厚的方法。因此,膜厚既是一個(gè)宏觀概念,又是微觀上的實(shí)體線度。

      由于實(shí)際上存在的表面是不平整和連續(xù)的,而且薄膜內(nèi)部還可能存在著、雜質(zhì)、晶格缺陷和表面吸附分子等,所以,要嚴(yán)格地定義和測(cè)量薄膜的厚度實(shí)際上是比較困難的。膜厚的定義應(yīng)根據(jù)測(cè)量的方法和目的來(lái)決定。  

經(jīng)典模型認(rèn)為物質(zhì)的表面并不是一個(gè)抽象的幾何概念,而是由剛性球的原子(分子)緊密排列而成,是實(shí)際存在的一個(gè)物理概念。

形狀膜厚:dT是接近于直觀形式的膜厚,通常以u(píng)m為單位。dT只與表面原子(分子)有關(guān),并且包含著薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響;

質(zhì)量膜厚:dM反映了薄膜中包含物質(zhì)的多少,通常以μg/cm2為單位,它消除了薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)的影響(如缺陷、、變形等);

物性膜厚:dP在實(shí)際使用上較有用,而且比較容易測(cè)量,它與薄膜內(nèi)部結(jié)構(gòu)和外部結(jié)構(gòu)無(wú)直接關(guān)系,主要取決于薄膜的性質(zhì)(如電阻率、透射率等)。



江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。公司位于上海和蘇州中間的昆山市城北高新區(qū)。我們專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)具備十年以上的從業(yè)經(jīng)驗(yàn),經(jīng)與海內(nèi)外多名通力合作,研究開(kāi)發(fā)出一系列能量色散X熒光光譜儀

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鍍層是通過(guò)電鍍?cè)跈C(jī)械制品上沉積出附著良好的,但性能和基體材料不同的金屬覆層。

電鍍層一般都比較薄,從幾十納米到幾十微米不等。通過(guò)電鍍,可以再機(jī)械制品上獲得裝飾保護(hù)性和各種功能性的表面層,還可以修復(fù)磨損和加工失誤的工件,鍍層厚度測(cè)量已成為加工工業(yè)、表面工程質(zhì)量檢測(cè)的重要一環(huán),是產(chǎn)品達(dá)到優(yōu)等質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的必備手段。江蘇一六儀器有限公司是一家專注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷售的高新技術(shù)企業(yè)。金屬鍍層通常按鍍層的用途可把鍍層分為三大類,即防護(hù)性鍍層,防護(hù)一裝飾性鍍層和功能性鍍層。


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  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時(shí)完成組分和厚度測(cè)試,厚度的測(cè)量范圍視材料和元素而定,通常在1nm-50um之間。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較,被測(cè)元素的特征X射線熒光強(qiáng)度不僅與鍍層中待測(cè)元素和基材的組成有關(guān),而且與厚度直接相關(guān)。能量色散X射線熒光光譜分析相對(duì)其他分析方法,具有無(wú)需對(duì)樣品進(jìn)行特別的化學(xué)處理、快速,方便,測(cè)量成本低等明顯優(yōu)勢(shì),特別適合用于各類相關(guān)企業(yè)作為過(guò)程控制和檢測(cè)使用。如果厚度由X射線吸收方法或比率方法確定,則厚度標(biāo)準(zhǔn)塊的基體應(yīng)與被測(cè)試樣的基體具有相同的X射線發(fā)射特性,通過(guò)比較被測(cè)試樣與校正參考標(biāo)準(zhǔn)塊的未鍍基體所選的特征輻射的強(qiáng)度,然后通過(guò)軟件達(dá)到對(duì)儀器的校正。是目前應(yīng)用為廣泛,具有速度快、無(wú)損化以及可實(shí)現(xiàn)多鍍層同時(shí)分析等特點(diǎn)。


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