真空鍍膜設(shè)備離子鍍的類型及特點(diǎn)

離子鍍是結(jié)合真空蒸鍍和濺射鍍兩種技術(shù)而發(fā)展起來(lái)的沉積技術(shù)。在真空條件下，采用適當(dāng)?shù)姆绞绞瑰兡げ牧险舭l(fā)，利用氣體放電使工作氣體和被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，在氣體離子和被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)產(chǎn)物在基體上沉積成膜。離子鍍的基本過(guò)程包括鍍膜材料的蒸發(fā)、離子化、離子加速、離子轟擊工件表面成膜。根據(jù)鍍膜材料不同的蒸發(fā)方式和氣體的離化方式，構(gòu)成了不同類型的離子鍍，下表是幾種主要的離子鍍。離子鍍具有鍍層與基體附著性能好、繞射性能好、可鍍材質(zhì)廣、沉積速率快等優(yōu)點(diǎn)。

表離子鍍的種類及其特點(diǎn)

種類蒸發(fā)源離化方法工作環(huán)境特點(diǎn)用途

直流放電法電阻輝光放電dc:0.1kv～5kv惰性氣體1pa，0.25ma/cm2結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，膜層結(jié)合力強(qiáng)，但鍍件溫升高，分散性差！耐熱，潤(rùn)滑等鍍件

弧光放電法電子束、燈絲弧光放電dc:100v高真空1.33x10-4pa離化率高，易制成反應(yīng)膜，可在高真空下成膜，利于提高質(zhì)量切削工具、金屬裝飾等鍍件

空心陰極法空心陰極等離子體電子束dc:0v～200v惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，蒸發(fā)速度大，易獲得高純度膜層裝飾、耐磨等鍍件

調(diào)頻激勵(lì)法電阻、電子束射頻電場(chǎng)13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體離化率高，膜層結(jié)合力強(qiáng)，鍍件溫升低，但分散性差光學(xué)、半導(dǎo)體等鍍件

電場(chǎng)蒸發(fā)法電子束二次電子dc:1kv～5kv真空不純氣體少，能形成較好的膜電子元件

多陰極法電阻、電子束熱電子dc:0v～5kv惰性氣體或反應(yīng)氣體低速電子離化效果好裝飾、電子、精密機(jī)械等零件

聚焦離子束法電阻聚集離子束dc:0v～5kv惰性氣體因離子聚束，膜層結(jié)合力強(qiáng)電子元件

活性反應(yīng)法電子束二次電子dc:200v反應(yīng)氣體o2、n2、ch4、c2h4等金屬與反應(yīng)氣體組合能制備多種傾倒物膜層電子、裝飾、耐磨等鍍件

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)有哪些優(yōu)點(diǎn)

真空鍍膜機(jī)PVD涂層技術(shù)適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金工具，那么它有哪些優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)呢？下面至成小編為大家詳細(xì)介紹一下：

（1）PVD膜層能直接鍍?cè)诓讳P鋼以及硬質(zhì)合金上，對(duì)比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應(yīng)先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍PVD，但是水鍍后做PVD容易起泡，不良率較高；

（2）典型的PVD涂層加工溫度在250℃~450℃之間；

（3）涂層種類和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為3~6小時(shí)；

（4）PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結(jié)合強(qiáng)度，涂層成分也由TiN發(fā)展為TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復(fù)合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用相關(guān)的儀器對(duì)顏色值進(jìn)行測(cè)量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿足要求。

多弧離子真空鍍膜機(jī)發(fā)展歷程及特點(diǎn)

20世紀(jì)70年代以來(lái)，隨著工業(yè)技術(shù)的不斷發(fā)展，對(duì)材料的綜合性能要求不斷提高，單一材料性能已經(jīng)不能滿足某些特征環(huán)境下工作機(jī)械的性能要求。離子真空鍍膜機(jī)鍍膜技術(shù)通過(guò)物理作用，使基體表面沉積出薄膜，在美觀的同時(shí)又有效提高鍍件的物理化學(xué)性能，從而提高產(chǎn)品的使用壽命。離子鍍技術(shù)是當(dāng)今使用面廣、先進(jìn)的表面處理技術(shù)之一。據(jù)統(tǒng)計(jì)，國(guó)內(nèi)外已有近一半以上表面處理使用多弧離子鍍技術(shù)，特別適用于對(duì)耐磨性、耐腐蝕性有特殊要求的場(chǎng)合。80年代后期，國(guó)內(nèi)外相繼開(kāi)發(fā)了離化效率更高的電弧放電真空離子鍍、多弧真空離子鍍等，使離子鍍技術(shù)進(jìn)入了一個(gè)新階段.

近年來(lái)，離子真空鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度得到了較快發(fā)展，國(guó)外的設(shè)備采用智能一體化控制系統(tǒng)，可精準(zhǔn)計(jì)算和控制鍍膜過(guò)程中的基體溫度、氣體流量和靶電流等關(guān)鍵性參數(shù)。國(guó)內(nèi)真空離子鍍膜機(jī)的自動(dòng)化程度也有了一定的發(fā)展，但在鍍膜產(chǎn)品穩(wěn)定性和精準(zhǔn)性方面尚需提升，設(shè)備依賴進(jìn)口。同時(shí)多弧離子鍍膜機(jī)低端產(chǎn)品市場(chǎng)存在供大于求的情況，價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)較為激烈。