、工作溫度：不同的鍍膜需要不同的溫度，比如鍍金色TiN，溫度580℃。鍍銀灰色TiCN溫度是450℃。

2、工作時(shí)間：由于不同鍍膜需要的溫度不同，以致不同的鍍膜需要不同的時(shí)間來(lái)控制；

3、材料本身：產(chǎn)地、厚度、規(guī)格、內(nèi)部構(gòu)成化學(xué)元素、表面初始加工的相似度；

4、真空鍍膜材料：目前真空鍍膜常規(guī)材料大致有：碳化鈦、氮化鈦、碳氮化鈦等，可以滿(mǎn)足市面常規(guī)（普通）的鍍膜需要，比較的鍍膜材料有氮化鈦鋁，氮化鉻膜等，用于加工比較復(fù)雜、的顏色；

5、不同的加工環(huán)境、不同的鍍鈦爐、不同的鍍鈦技工的處理方式都會(huì)對(duì)鍍鈦結(jié)果產(chǎn)生不同程度的影響；

6、由于不銹鋼表面加工工序的復(fù)雜性，每一張板材的每一道工序是不可能控制到一致的，這就直接影響到終成品的表面色澤，這也是目前該行業(yè)技術(shù)上的一個(gè)瓶頸。

離子鍍

在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對(duì)襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著力和質(zhì)量，是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢(shì)的PVD技術(shù)。物理氣相沉積技術(shù)可以應(yīng)用在硬質(zhì)膜的制造上，它能夠提高產(chǎn)品的機(jī)械化學(xué)性能，使制造出的產(chǎn)品具有高耐磨性、高硬度等性能，還可以減輕摩擦作用。

根據(jù)離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。

PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點(diǎn)

其應(yīng)用范圍是：

1）碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料；

2）金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。

其優(yōu)點(diǎn)是:

與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比，雙色PVD工藝更為復(fù)雜，流程更為繁雜，生產(chǎn)難度高，但外觀效果極佳，兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。

傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實(shí)現(xiàn)雙色效果，采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實(shí)現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。