鍍膜是一種由物理方法造成塑料薄膜原材料的技術(shù)性，在真空泵房間內(nèi)原材料的分子從加溫源混凝土離析出去打進(jìn)被鍍物件的表層上。鍍膜的作用是各個方面的，這也決策了其運(yùn)用場所比較豐富。整體而言，鍍膜的關(guān)鍵作用包含授予被鍍件表層高寬比金屬質(zhì)感和鏡面玻璃實(shí)際效果，在塑料薄膜原材料上使膜層具備優(yōu)異的隔絕特性，出示出色的磁屏蔽材料和導(dǎo)電性實(shí)際效果。

真空鍍膜技術(shù)性被稱作發(fā)展前景的關(guān)鍵技術(shù)性之一， 鍍膜企業(yè)并已在高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的發(fā)展趨勢中展示出的行業(yè)前景。

真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn)：

薄膜和基體選材廣泛，薄膜厚度可進(jìn)行控制，薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。

鍍膜技術(shù)都需要一個特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾。

由于在真空條件下制膜，所以薄膜的純度高、密實(shí)性好、表面光亮不需要再加工，這就使得薄膜的力學(xué)性能和化學(xué)性能比電鍍膜和化學(xué)膜好。

真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學(xué)特性來說，真空鍍膜沒有障礙。

鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分，這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。

真空鍍膜的物理過程

基本原理可分為三個工藝步驟：

鍍料的氣化：即鍍料的蒸發(fā)、升華或被濺射從而形成氣化源

鍍料粒子（（原子、分子或離子）的遷移：由氣化源供出原子、分子或離子經(jīng)過碰撞，產(chǎn)生多種反應(yīng)。

鍍料粒子在基片表面的沉積

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜表面的清洗非常重要，直接影響電鍍產(chǎn)品的質(zhì)量。在進(jìn)入鍍膜室之前，工件須在電鍍前仔細(xì)清洗。表面污染來源于加工、運(yùn)輸和包裝過程中粘附在工件上的各種灰塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物質(zhì)。為了避免加工過程中造成的缺陷，真空鍍膜廠家基本上可以通過脫脂或化學(xué)清洗的方式去除。