真空鍍膜機的市場用途

很多消費者對真空鍍膜機的概念不是很了解，不知道真空鍍膜機的市場用途，其實真空鍍膜機的衍生品有很多，而且都是與消費者息息相關，求購鍍膜機的朋友一般從事如下行業(yè)：一類是以裝飾為主，突出其裝飾功能，常用在塑膠玩具禮品包裝的鍍膜，手機外殼，數(shù)碼產品外殼，視窗，瓷磚鍍金等。

另一類是以功能為主，突出鍍膜的功能用途。會被如下行業(yè)使用：太陽能集熱管、眼鏡和鏡片的增透高反，手機殼的防輻射屏蔽、刀具的加硬、模具加硬等。

以上兩類行業(yè)都與真空鍍膜機有密切關系，所以在生活中，真空鍍膜機是十分重要的。

真空卷繞鍍膜機

的卷繞系統(tǒng)采用四電機驅動，恒張力控制，可實現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式，以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置，能達到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質量。強勁實用的抽真空系統(tǒng)相對獨立的卷繞室和蒸發(fā)室，每一個室都有一套獨立的真空泵組與其對應。能在很短的時間內達到鍍膜所需的工作真空度，使設備的生產率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴密的計算采取恰當?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距，采取交錯安裝的排布形式，使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質量。可以使用普通蒸發(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟，也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達14KVA，蒸發(fā)速率可達9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng)：蒸鍍輥配制有獨立的冷卻加熱系統(tǒng)，采用特殊的油導熱介質，能有效的冷卻蒸鍍輥，防止薄膜熱損傷。等離子預處理裝置：在鍍前對薄膜表面進行離子轟擊處理，除去薄膜表面吸附的水氣及雜質，提高附著力，改善鍍膜質量。簡單便捷的控制系統(tǒng)：便捷的全自動控制系統(tǒng)和友好的操作界面，可根據(jù)需要分別采用手動、半自動以及自動方式。

鍍膜技術發(fā)展需要解決哪些問題?

鍍膜技術發(fā)展需要解決哪些問題？ 鍍膜技術發(fā)展需要解決哪些問題？有專業(yè)業(yè)界人士認為，流行的鍍膜方式主要集中在真空鍍膜，像原始的鍍膜手段和方式的機會不大，對此就鍍膜技術來說，從現(xiàn)代環(huán)保節(jié)能要求看，化學鍍膜手段的確遇到挑戰(zhàn)，現(xiàn)在物流環(huán)保的真空鍍膜技術已獲得非常大的發(fā)展，現(xiàn)代鍍膜廠的轉型便是證明。 事實上，在化學鍍時代，鍍膜發(fā)展已經陷入重污染的困境，很多一線城市禁止高污染企業(yè)單位進駐，一方面，加快環(huán)保鍍膜技術的研究有效解決問題，另一方面，剛出現(xiàn)的環(huán)保鍍膜技術也存在一些問題，在鍍膜技術快速發(fā)展的情況下，各家有實力的廠家都在積極的研發(fā)和探索。 不可否認，鍍膜設備廠家一定要確實根據(jù)市場需求和社會環(huán)境要求來深度優(yōu)化產品，這樣才可市場占據(jù)有利地位。

高頻磁控濺射設備有什么特點

高頻磁控濺射電源昂貴，濺射速率很小，同時接地技術很復雜，因而難大規(guī)模采用。為解決此問題，發(fā)明了磁控反應濺射。就是用金屬靶，加入氣體和反應氣體如氮氣或氧氣。當金屬靶材撞向零件時由于能量轉化，與反應氣體化合生成氮化物或氧化物。 磁控反應濺射絕緣體看似容易,而實際操作困難。主要問題是反應不光發(fā)生在零件表面，也發(fā)生在陽極，真空腔體表面，以及靶源表面。從而引起滅火，靶源和工件表面起弧等。德國萊寶發(fā)明的孿生靶源技術，很好的解決了這個問題。其原理是一對靶源互相為陰陽極，從而消除陽極表面氧化或氮化。冷卻是一切源（磁控，多弧，離子）所必需，因為能量很大一部分轉為熱量，若無冷卻或冷卻不足，這種熱量將使靶源溫度達一千度以上從而溶化整個靶源。