【廣告】
電子束結(jié)構(gòu)介紹
粒子增速器的結(jié)構(gòu)可以與顯像管類比。顯像管中的電子槍對(duì)應(yīng)于增速器的電子槍或離子源,顯像管中加速電子用的高壓電極對(duì)應(yīng)于增速器中的高壓加速電極及加速腔。顯像管中控制電子運(yùn)動(dòng)的電偏轉(zhuǎn)板與聚焦電子的聚焦線圈,對(duì)應(yīng)于增速器中控制粒子運(yùn)動(dòng)軌道和聚焦粒子束流的多種電磁部件,如導(dǎo)向磁鐵、聚焦磁鐵、多極校正磁鐵等。對(duì)粒子增速器的粒子運(yùn)行管道來說,為了減少粒子在運(yùn)動(dòng)中與殘余氣體碰撞而造成粒子的丟失和束流性能變壞,所要求的真空度比顯像管要高數(shù)千到數(shù)萬倍。隨著科學(xué)技術(shù)的不斷發(fā)展,根據(jù)科學(xué)家對(duì)粒子能量和流強(qiáng)的不同要求,陸續(xù)產(chǎn)生了不同原理、不同結(jié)構(gòu)的多種增速器。環(huán)狀磁鋼套在靶材外邊形成曲線磁場(chǎng),其平行靶面的磁場(chǎng)分量和垂直于靶面的電場(chǎng)分量形成正交電磁場(chǎng)。
以上就是關(guān)于電子束產(chǎn)品的相關(guān)內(nèi)容介紹,如有需求,歡迎撥打圖片上的熱線電話!
電子束鍍膜機(jī)介紹
* 帶旋轉(zhuǎn)的傾斜沉積
* 行星式基片夾具
* 基片RF/DC偏壓
* 基片清洗的離子源以及離子輔助蒸鍍
* 附加物理沉積源(熱蒸鍍,磁控濺射)
* 用于反應(yīng)蒸鍍的MFC
* 不同的泵組選擇,可升級(jí)分子泵為冷泵,前級(jí)泵為干泵
* 進(jìn)樣室和自動(dòng)上下片/可支持單片和25片片夾
以上就是關(guān)于電子束的相關(guān)內(nèi)容介紹,如有需求,歡迎撥打圖片上的熱線電話!
電子束鍍膜機(jī)電源柜的操作
1. 總電源
2. 同時(shí)開電子槍控制Ⅰ和電子槍控制Ⅱ電源:按電子槍控制Ⅰ電源、延遲開關(guān)、電源及保護(hù)燈亮,三分鐘后延遲 及保護(hù)燈滅,若后門未關(guān)好或水流繼電器有故障,保護(hù)燈會(huì)常亮。
3. 開高壓,高壓會(huì)達(dá)到10KV以上,調(diào)節(jié)束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動(dòng)。
如需了解更多電子束的相關(guān)內(nèi)容,歡迎撥打圖片上的熱線電話!