不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法

不銹鋼標(biāo)牌在我們的日常生活當(dāng)中很常用，不銹鋼標(biāo)牌的制作方法也有很多，但是我近發(fā)現(xiàn)有很多的人在問(wèn)不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法，你知道不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法嗎?專(zhuān)業(yè)提供蝕刻標(biāo)牌、不銹鋼標(biāo)牌工藝要求：1、不銹鋼板須刨坑折彎焊接（不銹鋼板須先刨坑后折彎，以保證邊緣挺拔度）。如果還不是很了解的用戶，您也不需要擔(dān)心，下面艾力斯的工作人員就來(lái)為您具體的介紹一下不銹鋼標(biāo)牌的腐蝕方法：

1、首先把不銹鋼標(biāo)牌表面油污、灰塵清洗，用棉布擦拭干凈，然后在用無(wú)水酒精溶解石蠟，加少量松香。

2、用不干膠紙需要蝕刻的圖案、文字外，并貼在標(biāo)牌上，將石蠟的酒精溶液涂覆在不干膠紙條以外的部分，并等酒精揮發(fā)，使石蠟附在標(biāo)牌上形成了保護(hù)膜。

3、小心撕去不干膠紙，并用小刀(加熱)修飾圖案，將標(biāo)牌放入稀中，注意安全、通風(fēng)。

4、如果弄不到稀，可以用恒定電源加水的方法進(jìn)行電化學(xué)腐蝕)：只要把后一步改成不銹鋼接電源正極、電源負(fù)極接石墨棒，石墨棒和不銹鋼同時(shí)侵入5%左右的水中通電(中間用半透膜隔開(kāi))，不銹鋼就被電解腐蝕了。

總體設(shè)計(jì)方案 設(shè)計(jì)依據(jù) 標(biāo)識(shí)的設(shè)計(jì)依據(jù)如下幾方面： 企業(yè)對(duì)表達(dá)其經(jīng)營(yíng)理念和定位的要求； 企業(yè)的人機(jī)信息交換流程（企業(yè)內(nèi)部的結(jié)構(gòu)，往來(lái)關(guān)系）； 企業(yè)的室內(nèi)外建筑環(huán)境條件；

標(biāo)識(shí)的表達(dá)方式； 標(biāo)識(shí)的效果評(píng)價(jià)（由企業(yè)方?jīng)Q定） 企業(yè)標(biāo)識(shí)導(dǎo)向分類(lèi)原理； 標(biāo)識(shí)設(shè)計(jì)的理論參考依據(jù)。以8K鏡面板為底板，進(jìn)行蝕刻處理后，對(duì)物體表面再進(jìn)行深加工，可進(jìn)行局部的和紋，拉絲，嵌金，局部鈦金等各式復(fù)雜工藝處理，實(shí)現(xiàn)圖案明暗相間，色彩絢麗的效果。 企業(yè)方（客戶方）可根據(jù)自身的情況與設(shè)計(jì)者交流，參照以往的工程案例，經(jīng)驗(yàn)和其他參考 資料，整合出一個(gè)概念，其中包括用材、用色、效果、成本、節(jié)能，售后維護(hù)等多方位考慮。 有了一個(gè)清晰的目標(biāo)就會(huì)使企業(yè)方（客戶），設(shè)計(jì)及承造方少走彎路程，效率顯著，并容易 使雙方能在一稿后即可進(jìn)入一個(gè)更高層面思考、論證方案。

蝕刻是在光刻過(guò)的基片上可通過(guò)濕刻（wet etching）和干刻（dry etching）等方法將 阻擋層上的平面二維圖形加工成具有一定深度的立體結(jié)構(gòu)。金屬蝕刻標(biāo)牌通常所指蝕刻也稱(chēng)光化學(xué)蝕刻（photochemicaletching），指通過(guò)曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護(hù)膜去除，在蝕刻時(shí)接觸化學(xué)溶液，達(dá)到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。選用適當(dāng)?shù)奈g刻劑，使 它對(duì)光膠、薄膜和基片材料的腐蝕速度不同，可以在薄膜或基片上產(chǎn)生所需的微結(jié) 構(gòu)。 ? 復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)可通過(guò)多次重復(fù)薄膜沉積－光刻－蝕刻這三個(gè)工序來(lái)完成。微流控基片通過(guò)預(yù)處理，涂膠，前烘，曝光，顯影及堅(jiān)膜，去膠等步驟后，材料上 呈現(xiàn)所需要的圖形，即通道網(wǎng)絡(luò)。 蓋板與微流控芯片基片的封接 ? 基片和蓋板封接后形成封閉的小池，可用來(lái)儲(chǔ)存試劑或安裝電極。