微弧氧化產(chǎn)生的高溫高壓特性可使鋁合金表面氧化膜發(fā)生相轉(zhuǎn)變和結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變。3、不氧化的鋁放在空氣中很容易被腐蝕掉，從而出現(xiàn)黃斑或者黑斑，而氧化的產(chǎn)品長時間放在空氣中不會出現(xiàn)現(xiàn)象。在微弧氧化的過程下，原來生產(chǎn)的氧化膜不會脫落，只有表面一部分氧化膜可能會被粉化而沉淀在溶液中，脫落的表面可以繼續(xù)氧化，隨著外加電壓的升高，或時間的延長，微弧氧化膜厚度會不斷增加，直至達到外加電壓所對應(yīng)的厚度。經(jīng)測試，微弧氧化膜的厚度可達到200-300μm。微弧氧化技術(shù)優(yōu)勢、微弧氧化設(shè)備、微弧氧化電源

微弧氧化的工藝參數(shù)

       微弧氧化的工藝參數(shù)是指加工件上的外加電壓，一般說終電壓決定微弧氧化膜的厚度，它是不斷升高而達到的，不能一次性加至終電壓。微弧氧化又稱微等離子體氧化、陽極火花沉積或火花放電陽極氧化,，還有人稱之為等離子體增強電化學(xué)表面陶瓷化。微弧氧化膜的基本特性是與待處理材料及其表面狀態(tài)有關(guān)的，也與槽液類型、電解質(zhì)溶液成、外加電壓、電流密度、槽液溫度和攪拌等因素有關(guān)。其中特別是加在工件上的電壓與電流密度對于氧化膜的性能至關(guān)重要。微弧氧化過程中有一個很大的優(yōu)點就是外加電源突然中斷時可以直接繼續(xù)進行氧化，不需要除去工件上的氧化膜，也不必更換樣品重新處理。微弧氧化電源、微弧氧化生產(chǎn)線

微弧氧化的優(yōu)勢

       微弧氧化是一種直接在有色金屬表面原位生長陶瓷層的新技術(shù)，微弧氧化技術(shù)是近十幾年在陽極氧化基礎(chǔ)上發(fā)展起來的，但兩者在機理上、工藝上以及膜層性能上都有許多不同之處。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。所謂等離子體就是由大量的自由電子和離子組成，且在整體上表現(xiàn)為電中性的物質(zhì)，它被稱為固態(tài)、氣態(tài)和液態(tài)以外的第四態(tài)。處于熱等離子態(tài)的物質(zhì)具有強的導(dǎo)電性，且能量集中，溫度較高，是一個高熱、高溫的能源。與傳統(tǒng)的陽極氧化法相比，微弧氧化陶瓷膜與基體結(jié)合牢固，結(jié)構(gòu)致密，具有良好的耐磨、耐腐蝕、耐高溫沖擊和電絕緣等特性、具有廣闊的應(yīng)用前景。