光學鍍膜由薄的分層介質構成的，經過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W介質材料。光學薄膜的使用始于20世紀30年代?，F代，光學薄膜已廣泛用于光學和光電子技術領域，制造各種光學儀器。

吸收介質：能夠是法向均勻的，也能夠是法向不均勻的，實際使用的薄膜要比抱負薄膜復雜得多，這是因為，制備時，薄膜的光學性質和物理性質偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而導致光束的漫散射，膜層之間的相互滲透形成擴散界面，因為膜層的成長、結構、應力等原因，形成了薄膜的各向異性，膜層具有復雜的時刻效應。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。