真空鍍膜設(shè)備檢漏環(huán)節(jié),你都會(huì)了嗎?

新人來公司報(bào)道，前期都要進(jìn)行嚴(yán)格的真空鍍膜設(shè)備撿漏培訓(xùn)，后期還要經(jīng)過公司傳幫帶的方式來幫助新人快速成長，為什么公司對撿漏培訓(xùn)如此重視和嚴(yán)格，下面小編為大家講解真空鍍膜設(shè)備撿漏的重要性：真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項(xiàng)檢查措施，簡稱檢漏，真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的，如果撿漏有紕漏，必然會(huì)造成或大或小的損失，由此得不償失，所以機(jī)器在運(yùn)作過程中檢漏環(huán)節(jié)是必不可少的。經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)人員都知道，撿漏產(chǎn)生的原因一般都是真空室內(nèi)漏氣都是從室壁上的一些小孔或部件之前的連接位細(xì)縫中產(chǎn)生，當(dāng)抽氣系統(tǒng)抽氣后使真空室內(nèi)壓強(qiáng)下降，外部與內(nèi)部的壓強(qiáng)差使氣體從壓強(qiáng)高的外部流向壓強(qiáng)低的真空室內(nèi)，造成真空度下降。

真空卷繞鍍膜機(jī)

的卷繞系統(tǒng)采用四電機(jī)驅(qū)動(dòng)，恒張力控制，可實(shí)現(xiàn)距離卷繞和接觸卷繞兩種卷繞方式。提供了多種不同的卷繞方式，以適用于所鍍制的薄膜種類和工藝要求。在卷繞系統(tǒng)中設(shè)置了適用于CPP、PET、OPP等多種塑料薄膜特殊的展平裝置，能達(dá)到無褶皺、無劃傷、無邊緣積聚的優(yōu)良蒸鍍和收卷質(zhì)量。強(qiáng)勁實(shí)用的抽真空系統(tǒng)相對獨(dú)立的卷繞室和蒸發(fā)室，每一個(gè)室都有一套獨(dú)立的真空泵組與其對應(yīng)。能在很短的時(shí)間內(nèi)達(dá)到鍍膜所需的工作真空度，使設(shè)備的生產(chǎn)率得到很大地提高。蒸發(fā)源系統(tǒng)通過嚴(yán)密的計(jì)算采取恰當(dāng)?shù)恼舭l(fā)距離和舟間距，采取交錯(cuò)安裝的排布形式，使用兩端頂持的舟安裝方式保證了良好的蒸鍍均勻性的成膜質(zhì)量?？梢允褂闷胀ㄕ舭l(fā)速率的陶瓷蒸發(fā)舟，也可以使用高蒸發(fā)率的蒸發(fā)舟。其功率可達(dá)14KVA，蒸發(fā)速率可達(dá)9克/分鐘。冷卻加熱系統(tǒng)：蒸鍍輥配制有獨(dú)立的冷卻加熱系統(tǒng)，采用特殊的油導(dǎo)熱介質(zhì)，能有效的冷卻蒸鍍輥，防止薄膜熱損傷。等離子預(yù)處理裝置：在鍍前對薄膜表面進(jìn)行離子轟擊處理，除去薄膜表面吸附的水氣及雜質(zhì)，提高附著力，改善鍍膜質(zhì)量。簡單便捷的控制系統(tǒng)：便捷的全自動(dòng)控制系統(tǒng)和友好的操作界面，可根據(jù)需要分別采用手動(dòng)、半自動(dòng)以及自動(dòng)方式。

真空鍍中對底涂層的要求：

①對鍍件與鍍膜層有良好的接觸性能與較高的結(jié)合力，熱膨脹系數(shù)相差小，不起反應(yīng)，流平性能好。②具有良好的真空性能。底涂層固化后放氣量少、熱應(yīng)力小、耐熱性能好。③成膜性能好，涂層的致密度、覆蓋能力、抗溶劑能力與耐光照能力等性能良好。④與面涂層有良好的相溶性。由于鍍膜層極薄有孔隙，要求底涂層和面涂層的溶劑和稀釋劑有良好的相溶性。⑤施涂性能良好。流平性能良好，有適當(dāng)?shù)酿ざ取⒐袒瘯r(shí)間短。 真空鍍對面涂層的要求：①與鍍膜層要有良好的接觸性能;②與底涂層要有一定的相溶性;③成膜性能與施涂性能優(yōu)良;具有適當(dāng)?shù)臋C(jī)械強(qiáng)度;④防潮、抗溶劑、耐腐蝕性能好。抗老化性能強(qiáng)。由于產(chǎn)品的特殊需要，在面涂層上還可進(jìn)一步施涂超硬涂層或彩色涂層等。

真空鍍膜機(jī)蒸發(fā)與磁控濺射鍍鋁性能

嚴(yán)格控制發(fā)Al膜的厚度是十分重要的，因?yàn)锳l膜的厚度將直接影響Al膜的其它性能，從而影響半導(dǎo)體器件的可靠性。對于高反壓功率管來說，它的工作電壓高，電流大，沒有一定厚度的金屬膜會(huì)造成成單位面積Al膜上電流密度過高，易燒毀。對于一般的半導(dǎo)體器件，Al層偏薄，則膜的連續(xù)性較差，呈島狀或網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，引起壓焊引線困難，造成不易壓焊或壓焊不牢，從而影響成品率;Al層過厚，引起光刻時(shí)圖形看不清，造成腐蝕困難而且易產(chǎn)生邊緣腐蝕和“連條”現(xiàn)象。 采用真空鍍膜機(jī)電子束蒸發(fā)，行星機(jī)構(gòu)在沉積薄膜時(shí)均勻轉(zhuǎn)動(dòng)，各個(gè)基片在沉積Al膜時(shí)的幾率均等;行星機(jī)構(gòu)的聚焦點(diǎn)在坩堝蒸發(fā)源處，各個(gè)基片在一定真空度下沉積速率幾乎相等。采用真空鍍膜機(jī)磁控濺射鍍膜方法，由于沉積電流和靶電壓可以控制，也即是濺射功率可以調(diào)節(jié)并控制，因此膜厚的可控性和重復(fù)性較好，并且可在較大表面上獲得厚度均勻的膜層。